የናኖ ሴሪየም ኦክሳይድ ዝግጅት እና አተገባበሩ በውሃ አያያዝ

ሴኦ2ብርቅዬ የምድር ቁሳቁሶች አስፈላጊ አካል ነው. የብርቅዬ የምድር ንጥረ ነገር ሴሪየምልዩ ውጫዊ ኤሌክትሮኒክ መዋቅር አለው - 4f15d16s2. የእሱ ልዩ 4f ንብርብር ኤሌክትሮኖችን በውጤታማነት ማከማቸት እና መልቀቅ ይችላል፣ ይህም የሴሪየም ions በ+3 valence state እና+4 valence state ውስጥ እንዲኖራቸው ያደርጋል። ስለዚህ, የ CeO2 ቁሳቁሶች ተጨማሪ የኦክስጂን ቀዳዳዎች አሏቸው, እና ኦክስጅንን ለማከማቸት እና ለመልቀቅ በጣም ጥሩ ችሎታ አላቸው. የC (III) እና የC (IV) የጋራ ልወጣ እንዲሁ የCeO2 ቁሳቁሶችን ልዩ ኦክሳይድ-መቀነሻ የካታሊቲክ ችሎታዎችን ይሰጣል። ከጅምላ ቁሶች ጋር ሲወዳደር ናኖ ሴኦ2 እንደ አዲስ አይነት ኦርጋኒክ ያልሆነ ቁሳቁስ ከፍተኛ የሆነ የቦታ ስፋት፣ እጅግ በጣም ጥሩ የኦክስጂን ማከማቻ እና የመልቀቅ ችሎታ፣ የኦክስጅን ion conductivity፣ redox አፈጻጸም እና ከፍተኛ የሙቀት መጠን ያለው ፈጣን የኦክስጂን ክፍተት ስርጭት ምክንያት ሰፊ ትኩረት አግኝቷል። ችሎታ. በአሁኑ ጊዜ ናኖ CeO2ን እንደ ማነቃቂያ፣ ማበረታቻ ተሸካሚዎች ወይም ተጨማሪዎች፣ አክቲቭ አካሎች እና አድሶርበን በመጠቀም በርካታ የምርምር ሪፖርቶች እና ተዛማጅ መተግበሪያዎች አሉ።

1. የናኖሜትር ዝግጅት ዘዴሴሪየም ኦክሳይድ

በአሁኑ ጊዜ ለናኖ ሴሪያ የተለመዱ የዝግጅት ዘዴዎች በዋናነት የኬሚካላዊ ዘዴን እና አካላዊ ዘዴን ያካትታሉ. በተለያዩ የኬሚካል ዘዴዎች መሠረት የኬሚካል ዘዴዎች በዝናብ ዘዴ, በሃይድሮተርማል ዘዴ, በሶልቮተርማል ዘዴ, በሶል ጄል ዘዴ, በማይክሮኤሚልሽን ዘዴ እና በኤሌክትሮላይዜሽን ዘዴ ሊከፋፈሉ ይችላሉ; አካላዊ ዘዴው በዋናነት የመፍጨት ዘዴ ነው።

 
1.1 የመፍጨት ዘዴ

ናኖ ሴሪያን ለማዘጋጀት የመፍጨት ዘዴ በአጠቃላይ የአሸዋ መፍጨትን ይጠቀማል ፣ ይህም ዝቅተኛ ዋጋ ፣ የአካባቢ ወዳጃዊነት ፣ ፈጣን የማቀነባበር ፍጥነት እና ጠንካራ የማቀነባበር ችሎታ ጥቅሞች አሉት። በአሁኑ ጊዜ በ nano ceria ኢንዱስትሪ ውስጥ በጣም አስፈላጊው የማቀነባበሪያ ዘዴ ነው. ለምሳሌ የናኖ ሴሪየም ኦክሳይድ ፖሊሺንግ ዱቄት ዝግጅት በአጠቃላይ የካልሲኔሽን እና የአሸዋ መፍጨትን የሚያካትት ሲሆን በሴሪየም ላይ የተመሰረተ የዲንቴሽን ማነቃቂያዎች ጥሬ እቃዎች ለቅድመ-ህክምና ይደባለቃሉ ወይም የአሸዋ መፍጨትን በመጠቀም ከካልሲኔሽን በኋላ ይታከማሉ። የተለያዩ የቅንጣት መጠን የአሸዋ መፍጨት ዶቃ ሬሾን በመጠቀም ከአስር እስከ መቶ ናኖሜትሮች ያለው ናኖ ሴሪያ D50 ያለው በማስተካከል ሊገኝ ይችላል።

 
1.2 የዝናብ ዘዴ

የዝናብ ዘዴው በዝናብ, በመለየት, በማጠብ, በማድረቅ እና በተመጣጣኝ መሟሟት ውስጥ የሚሟሟ ጥሬ ዕቃዎችን በማዘጋጀት ጠንካራ ዱቄት የማዘጋጀት ዘዴን ያመለክታል. የዝናብ ዘዴው እንደ ቀላል የማዘጋጀት ሂደት፣ ከፍተኛ ቅልጥፍና እና ዝቅተኛ ወጭ ያሉ ጥቅሞች ያሉት ብርቅዬ ምድር እና ዶፔድ ናኖሜትሪዎችን ለማዘጋጀት በሰፊው ጥቅም ላይ ይውላል። በኢንዱስትሪ ውስጥ ናኖ ሴሪያን እና የተዋሃዱ ቁሳቁሶችን ለማዘጋጀት በብዛት ጥቅም ላይ የሚውል ዘዴ ነው። ይህ ዘዴ የዝናብ ሙቀትን, የቁሳቁስን ትኩረትን, የፒኤች እሴትን, የዝናብ ፍጥነትን, የመቀስቀሻ ፍጥነትን, አብነት, ወዘተ በመቀየር ናኖ ሴሪያን በተለያየ ቅርጽ እና ቅንጣት መጠን ማዘጋጀት ይችላል. እና nano ceria microspheres ዝግጅት በ citrate ions ቁጥጥር ይደረግበታል. በአማራጭ, cerium ions በ OH ሊዘሩ ይችላሉ - ከሶዲየም ሲትሬት ሃይድሮላይዜሽን የመነጨ እና ከዚያም የተከተፈ እና calcined እንደ nano ceria microspheres flake ለማዘጋጀት.

 
1.3 የሃይድሮተርማል እና የሶልቮተርማል ዘዴዎች

እነዚህ ሁለት ዘዴዎች በከፍተኛ ሙቀት እና ከፍተኛ ግፊት ምላሽ በከፍተኛ ሙቀት ውስጥ ምርቶችን የማዘጋጀት ዘዴን ያመለክታሉ በተዘጋ ስርዓት ውስጥ. የምላሽ መሟሟት ውሃ ሲሆን, የሃይድሮተርማል ዘዴ ይባላል. በተመጣጣኝ ሁኔታ, የምላሽ መሟሟት ኦርጋኒክ ፈሳሽ ሲሆን, የሶልቮተርማል ዘዴ ይባላል. የተዋሃዱ የናኖ ቅንጣቶች ከፍተኛ ንፅህና፣ ጥሩ ስርጭት እና ወጥ የሆነ ቅንጣቶች አሏቸው፣ በተለይም የናኖ ዱቄት የተለያየ ቅርጽ ያላቸው ወይም የተጋለጡ ልዩ ክሪስታል ፊቶች። የሴሪየም ክሎራይድ በተጣራ ውሃ ውስጥ ይቀልጡ, ያነሳሱ እና የሶዲየም ሃይድሮክሳይድ መፍትሄ ይጨምሩ. ሃይድሮተርማል በ 170 ℃ ለ 12 ሰአታት ሲሪየም ኦክሳይድ ናኖሮድስን ከተጋለጡ (111) እና (110) ክሪስታል አውሮፕላኖች ጋር ለማዘጋጀት። የምላሽ ሁኔታዎችን በማስተካከል, በተጋለጡ ክሪስታል አውሮፕላኖች ውስጥ ያሉት (110) ክሪስታል አውሮፕላኖች መጠን ሊጨምር ይችላል, ይህም የካታሊቲክ እንቅስቃሴያቸውን የበለጠ ያሳድጋል. የምላሽ መሟሟትን እና የወለል ንጣፎችን ማስተካከል ልዩ ሃይድሮፊሊቲቲ ወይም lipophilicity ያላቸው የናኖ ሴሪያ ቅንጣቶችን ማምረት ይችላል። ለምሳሌ አሲቴት ionዎችን ወደ የውሃው ክፍል መጨመር ሞኖዳይስፔስ ሃይድሮፊል ሴሪየም ኦክሳይድ ናኖፓርቲሎች በውሃ ውስጥ ማዘጋጀት ይችላል። የዋልታ ያልሆነ መሟሟትን በመምረጥ እና በምላሹ ጊዜ ኦሌይሊክ አሲድ እንደ ሊጋንድ በማስተዋወቅ ፣ monodisperse lipophilic ceria nanoparticles የዋልታ ባልሆኑ ኦርጋኒክ መሟሟቶች ውስጥ ሊዘጋጁ ይችላሉ። (ስእል 1 ይመልከቱ)

ምስል 1 ሞኖዲስፐርስ ሉላዊ ናኖ ሴሪያ እና ዘንግ ቅርጽ ያለው ናኖ ሴሪያ

1.4 የሶል ጄል ዘዴ

የሶል ጄል ዘዴ አንዳንድ ወይም ብዙ ውህዶችን እንደ ቅድመ ሁኔታ የሚጠቀም፣ እንደ ሃይድሮሊሲስ የመሳሰሉ ኬሚካላዊ ግብረመልሶችን በፈሳሽ ምዕራፍ ውስጥ ሶል እንዲፈጠር የሚያደርግ እና ከዚያም ከእርጅና በኋላ ጄል የሚፈጥር እና በመጨረሻም ደረቅ እና ካልሲን በመጠቀም የአልትራፊን ዱቄት ለማዘጋጀት የሚረዳ ዘዴ ነው። ይህ ዘዴ በተለይ እንደ ሴሪየም ብረት፣ ሴሪየም ታይታኒየም፣ ሴሪየም ዚርኮኒየም እና ሌሎች የተዋሃዱ ናኖ ኦክሳይድ ያሉ በጣም የተበታተኑ ባለብዙ ክፍል ናኖ ሴሪያ የተቀናበሩ ናኖሜትሪዎችን ለማዘጋጀት በጣም ምቹ ነው።

 
1.5 ሌሎች ዘዴዎች

ከላይ ከተጠቀሱት ዘዴዎች በተጨማሪ የማይክሮ ሎሽን ዘዴ፣ ማይክሮዌቭ ውህደት ዘዴ፣ ኤሌክትሮዲፖዚሽን ዘዴ፣ የፕላዝማ ነበልባል ማቃጠያ ዘዴ፣ ion-exchange membrane electrolysis method እና ሌሎች በርካታ ዘዴዎችም አሉ። እነዚህ ዘዴዎች ለ nano ceria ምርምር እና አተገባበር ትልቅ ጠቀሜታ አላቸው.

 
በውሃ አያያዝ ውስጥ 2-nanometer cerium oxide ትግበራ

ሴሪየም በዝቅተኛ ዋጋ እና ሰፊ አፕሊኬሽኖች ካሉ ብርቅዬ የምድር ንጥረ ነገሮች መካከል በጣም የበለፀገ አካል ነው። ናኖሜትር ሴሪያ እና ውህደቶቹ በውሃ አያያዝ መስክ ከፍተኛ ትኩረትን የሳቡ ልዩ የገጽታ አካባቢ፣ ከፍተኛ የካታሊቲክ እንቅስቃሴ እና እጅግ በጣም ጥሩ መዋቅራዊ መረጋጋት በመኖሩ ነው።

 
2.1 የናኖ ሴሪየም ኦክሳይድበውሃ አያያዝ በ Adsorption ዘዴ

ከቅርብ ዓመታት ወዲህ እንደ ኤሌክትሮኒክስ ኢንዱስትሪ ያሉ ኢንዱስትሪዎች በመስፋፋት እንደ ሄቪ ሜታል ions እና ፍሎራይን ions ያሉ ብክለትን የያዙ ከፍተኛ መጠን ያለው ቆሻሻ ውሃ ተለቀቀ። በክትትል ክምችት ውስጥ እንኳን, በውሃ ውስጥ ባሉ ፍጥረታት እና በሰው ልጅ አካባቢ ላይ ከፍተኛ ጉዳት ሊያደርስ ይችላል. በብዛት ጥቅም ላይ የሚውሉት ዘዴዎች ኦክሳይድ፣ flotation፣ reverse osmosis፣ adsorption፣ nanofiltration፣ biosorption እና የመሳሰሉትን ያካትታሉ።ከነሱ መካከል የማስታወቂያ ቴክኖሎጂ ብዙ ጊዜ በቀላል አሰራሩ፣ በዝቅተኛ ወጪ እና በህክምና ቅልጥፍና ምክንያት ተቀባይነት ይኖረዋል። የናኖ ሴኦ2 ቁሶች ከፍተኛ የሆነ የገጽታ ስፋት እና ከፍተኛ የገጽታ እንቅስቃሴ እንደ ማስታወቂያ ሰሪ ናቸው፣ እና የተቦረቦረ ናኖ ሴኦ2 እና የተዋሃዱ ቁሶችን ከተለያዩ morphologies ጋር በማዋሃድ እና ጎጂ ionዎችን ከውሃ ውስጥ ለማስወገድ ብዙ ሪፖርቶች ቀርበዋል።

ምርምር እንደሚያሳየው ናኖ ሴሪያ ለኤፍ - ደካማ አሲዳማ በሆኑ ሁኔታዎች ውስጥ በውሃ ውስጥ ጠንካራ የማስተዋወቅ አቅም አለው። የ 100mg / L እና pH = 5-6 የመጀመሪያ ትኩረት ጋር መፍትሄ ውስጥ, የ adsorption አቅም ለ F - 23mg / g ነው, እና F የማስወገድ መጠን - 85.6% ነው. በፖሊacrylic አሲድ ሬንጅ ኳስ ላይ ከተጫነ በኋላ (የመጫኛ መጠን: 0.25g / g), የ F የማስወገድ ችሎታ - ከ 99% በላይ ሊደርስ ይችላል 100mg / L ኤፍ እኩል መጠን ሲታከም - የውሃ መፍትሄ; በ 120 እጥፍ መጠን ሲሰራ, ከ 90% በላይ F - ሊወገድ ይችላል. ፎስፌት እና አዮዳይትን ለማጣመር ጥቅም ላይ በሚውልበት ጊዜ የማስተዋወቅ አቅሙ ከ 100mg/g በላይ በሚዛመደው የማስታወቂያ ሁኔታ ስር ሊደርስ ይችላል። ጥቅም ላይ የዋለው ቁሳቁስ ከፍተኛ ኢኮኖሚያዊ ጠቀሜታ ካለው ቀላል የመበስበስ እና የገለልተኝነት ሕክምና በኋላ እንደገና ጥቅም ላይ ሊውል ይችላል።

እንደ አርሴኒክ፣ ክሮምሚም፣ ካድሚየም እና እርሳስ ያሉ መርዛማ ሄቪ ብረቶችን መቀበል እና ማከም ናኖ ሴሪያ እና ውህድ ቁሶችን በመጠቀም ብዙ ጥናቶች አሉ። ለሄቪ ሜታል ions የተለያየ የቫሌሽን ግዛቶች (valence state) ያላቸው በጣም ጥሩው የማስተዋወቂያ ፒኤች ይለያያል። ለምሳሌ ደካማው የአልካላይን ሁኔታ ከገለልተኛ ወገንተኝነት ጋር ለ As (III) በጣም ጥሩ የማስተዋወቂያ ሁኔታ አለው ፣ ለ As (V) ጥሩው የማስተዋወቅ ሁኔታ በደካማ አሲዳማ ሁኔታዎች ውስጥ ይገኛል ፣ የማስታወቂያው አቅም በሁለቱም ከ 110mg/g በላይ ሊደርስ ይችላል። ሁኔታዎች. በአጠቃላይ የናኖ ሴሪያ እና የተዋሃዱ ቁሶች የተመቻቸ ውህደት ለተለያዩ ሄቪ ሜታል ionዎች በሰፊ የፒኤች ክልል ውስጥ ከፍተኛ የማስተዋወቅ እና የማስወገድ መጠንን ሊያገኙ ይችላሉ።

በሌላ በኩል፣ ሴሪየም ኦክሳይድን መሰረት ያደረጉ ናኖሜትሪዎች እንደ አሲድ ብርቱካን፣ ሮዳሚን ቢ፣ ኮንጎ ቀይ፣ ወዘተ የመሳሰሉ በቆሻሻ ውሃ ውስጥ ያሉ ኦርጋኒክ ንጥረ ነገሮችን በማዳቀል ረገድ የላቀ አፈፃፀም አላቸው። በ60 ደቂቃ ውስጥ 942.7mg/g የሆነ የማስታወቅያ አቅም ያለው ኦርጋኒክ ማቅለሚያዎችን የማስወገድ በተለይም የኮንጎ ቀይ ቀለምን የማስወገድ አቅም።

 
2.2 ናኖ ሴሪያን በከፍተኛ የኦክሳይድ ሂደት ውስጥ መተግበር

የላቀ የኦክሳይድ ሂደት (AOPs ለአጭር ጊዜ) አሁን ያለውን የአናይድሬትስ ህክምና ሥርዓት ለማሻሻል ታቅዷል። የላቀ oxidation ሂደት, በተጨማሪም ጥልቅ oxidation ቴክኖሎጂ በመባል የሚታወቀው, ኃይለኛ oxidation ችሎታ ጋር hydroxyl radical (· OH), ሱፐርኦክሳይድ ራዲካል (· O2 -), ነጠላ ኦክስጅን, ወዘተ ምርት ባሕርይ ነው. ከፍተኛ ሙቀት እና ግፊት, ኤሌክትሪክ, ድምጽ, ብርሃን irradiation, catalyst, ወዘተ ያለውን ምላሽ ሁኔታዎች ስር ነጻ ምልክቶች እና ምላሽ ሁኔታዎች ማመንጨት የተለያዩ መንገዶች መሠረት, እነርሱ photochemical oxidation, catalytic እርጥብ oxidation, sonochemistry oxidation, ኦዞን ሊከፈል ይችላል. ኦክሳይድ, ኤሌክትሮኬሚካል ኦክሳይድ, ፌንቶን ኦክሲዴሽን, ወዘተ (ስእል 2 ይመልከቱ).

ምስል 2 የላቀ የኦክሳይድ ሂደት ምደባ እና ቴክኖሎጂ ጥምረት

ናኖ ሴሪያበ Advanced oxidation ሂደት ውስጥ በብዛት ጥቅም ላይ የሚውለው የተለያየ ቀስቃሽ ነው። በሴ3+ እና በሴ4+ መካከል ባለው ፈጣን ለውጥ እና በኦክስጅን በመምጠጥ እና በመለቀቅ ባመጣው ፈጣን የኦክሳይድ-መቀነሻ ውጤት ናኖ ሴሪያ ጥሩ የካታሊቲክ ችሎታ አለው። እንደ ማነቃቂያ አራማጅነት ጥቅም ላይ ሲውል፣ እንዲሁም የካታሊቲክ ችሎታን እና መረጋጋትን በብቃት ማሻሻል ይችላል። ናኖ ሴሪያ እና የተዋሃዱ ቁሶች እንደ ማነቃቂያነት ጥቅም ላይ በሚውሉበት ጊዜ የካታሊቲክ ባህሪያቱ በአፈፃፀማቸው እና በአተገባበሩ ላይ ተጽዕኖ የሚያሳድሩ ቁልፍ ነገሮች ከሞርፎሎጂ ፣ ቅንጣት መጠን እና የተጋለጡ ክሪስታል አውሮፕላኖች ጋር በእጅጉ ይለያያሉ። በአጠቃላይ ትናንሽ ቅንጣቶች እና የተወሰነው የገጽታ ስፋት, የበለጠ ተዛማጅነት ያለው ገባሪ ቦታ, እና የካታሊቲክ ችሎታው ጠንካራ እንደሚሆን ይታመናል. ከጠንካራ ወደ ደካማ የተጋለጠ ክሪስታል ወለል ያለው የካታሊቲክ ችሎታ በ (100) ክሪስታል ገጽ>(110) ክሪስታል ወለል>(111) ክሪስታል ወለል ነው፣ እና ተመጣጣኝ መረጋጋት ተቃራኒ ነው።

ሴሪየም ኦክሳይድ ሴሚኮንዳክተር ቁሳቁስ ነው። ናኖሜትር ሴሪየም ኦክሳይድ ከባንዱ ክፍተት ከፍ ያለ ሃይል ባላቸው ፎቶኖች ሲሰራጭ፣ የቫሌንስ ባንድ ኤሌክትሮኖች ይደሰታሉ፣ እና የሽግግር ዳግም ውህደት ባህሪ ይከሰታል። ይህ ባህሪ የC3+ እና Ce4+ ልወጣ ፍጥነትን ያበረታታል፣ ይህም የናኖ ሴሪያ ጠንካራ የፎቶካታሊቲክ እንቅስቃሴን ያስከትላል። Photocatalysis ያለ ሁለተኛ ደረጃ ብክለት የኦርጋኒክ ቁስ አካልን በቀጥታ ማበላሸት ይችላል, ስለዚህ አፕሊኬሽኑ በ AOPs ውስጥ በ nano ceria መስክ ውስጥ በጣም የተጠና ቴክኖሎጂ ነው. በአሁኑ ወቅት ዋናው ትኩረት የአዞ ቀለም፣ ፌኖል፣ ክሎሮበንዜን እና የመድኃኒት ቆሻሻ ውሃ የተለያዩ morphologies እና የተቀናጀ ውህዶች ያሏቸውን ማነቃቂያዎችን በመጠቀም የካታሊቲክ መበላሸት ሕክምና ላይ ነው። በሪፖርቱ መሠረት በተመቻቸ የካታሊስት ውህድ ዘዴ እና የካታሊቲክ ሞዴል ሁኔታዎች የእነዚህ ንጥረ ነገሮች የመበላሸት አቅም በአጠቃላይ ከ 80% በላይ ሊደርስ ይችላል ፣ እና የቶታል ኦርጋኒክ ካርቦን (TOC) የማስወገድ አቅም ከ 40% በላይ ሊደርስ ይችላል ።

ናኖ ሴሪየም ኦክሳይድ እንደ ኦዞን እና ሃይድሮጂን ፐሮአክሳይድ ያሉ ኦርጋኒክ በካይ ንጥረ ነገሮችን መራቆት ሌላው በስፋት የተጠና ቴክኖሎጂ ነው። ከፎቶካታላይዝስ ጋር በሚመሳሰል መልኩ፣ ናኖ ሴሪያ ከተለያዩ morphologies ወይም ክሪስታል አውሮፕላኖች እና የተለያዩ የሴሪየም ውህድ ካታሊቲክ ኦክሳይድ ኦክሲዳንቶች ጋር ኦርጋኒክ ብክለትን ለማዳከም እና ለማዳከም ባለው ችሎታ ላይ ያተኩራል። እንዲህ ያሉ ምላሾች ውስጥ, catalysts ከኦዞን ወይም ሃይድሮጅን ፓርሞክሳይድ, ኦርጋኒክ በካይ የሚያጠቁ እና ይበልጥ ቀልጣፋ oxidative deradaration ችሎታዎች ለማሳካት ይህም ከኦዞን ወይም ሃይድሮጅን ፓርሞክሳይድ, ከ ንቁ አክራሪዎች ማመንጨት ይችላሉ. በምላሹ ውስጥ ኦክሳይዶችን በማስተዋወቅ ምክንያት የኦርጋኒክ ውህዶችን የማስወገድ ችሎታ በእጅጉ ይጨምራል. በአብዛኛዎቹ ምላሾች፣ የታለመው ንጥረ ነገር የመጨረሻው የማስወገድ መጠን 100% ሊደርስ ወይም ሊጠጋ ይችላል፣ እና የTOC የማስወገድ መጠንም ከፍ ያለ ነው።

በኤሌክትሮክካታሊቲክ የላቀ ኦክሳይድ ዘዴ ውስጥ ከፍተኛ የኦክስጂን ዝግመተ ለውጥ ያለው የአኖድ ቁሳቁስ ባህሪያት የኦርጋኒክ ብክለትን ለማከም የኤሌክትሮክካታሊቲክ የላቀ ኦክሳይድ ዘዴን መምረጥን ይወስናሉ። የካቶድ ቁሳቁስ የ H2O2 ምርትን የሚወስን አስፈላጊ ነገር ነው, እና የ H2O2 ምርት የኦርጋኒክ ብክለትን ለማከም የኤሌክትሮክካታሊቲክ የላቀ ኦክሳይድ ዘዴን ውጤታማነት ይወስናል. ናኖ ሴሪያን በመጠቀም የኤሌክትሮድ ቁስ ማሻሻያ ጥናት በአገር ውስጥም ሆነ በዓለም አቀፍ ደረጃ ሰፊ ትኩረት አግኝቷል። ተመራማሪዎች በዋነኛነት ናኖ ሴሪየም ኦክሳይድን እና የተዋሃዱ ቁሶችን በተለያዩ ኬሚካላዊ ዘዴዎች በማስተዋወቅ የተለያዩ ኤሌክትሮዶችን ለመለወጥ፣ ኤሌክትሮኬሚካላዊ እንቅስቃሴያቸውን ለማሻሻል እና በዚህም ኤሌክትሮክካታሊቲክ እንቅስቃሴን እና የመጨረሻውን የማስወገድ ፍጥነት ይጨምራሉ።

ማይክሮዌቭ እና አልትራሳውንድ ብዙውን ጊዜ ከላይ ላሉት የካታሊቲክ ሞዴሎች አስፈላጊ ረዳት እርምጃዎች ናቸው። ለአልትራሳውንድ ዕርዳታ ብንወስድ፣ የንዝረት የድምፅ ሞገዶች በሰከንድ ከ25 ኪሎ ኸርዝ የሚበልጥ ድግግሞሽ በመጠቀም፣ በሚሊዮን የሚቆጠሩ እጅግ በጣም ትናንሽ አረፋዎች በልዩ ሁኔታ በተዘጋጀ የጽዳት ወኪል በተዘጋጀው መፍትሄ ይፈጠራሉ። እነዚህ ትናንሽ አረፋዎች በፍጥነት በሚጨመቁበት እና በሚስፋፉበት ጊዜ ያለማቋረጥ አረፋ ኢምፕሎሽን ያመነጫሉ ፣ ቁሳቁሶች በፍጥነት እንዲለዋወጡ እና በካታሊስት ወለል ላይ እንዲሰራጭ ያስችላቸዋል ፣ ብዙውን ጊዜ የካታሊቲክ ቅልጥፍናን በከፍተኛ ሁኔታ ያሻሽላል።

 
3 መደምደሚያ

ናኖ ሴሪያ እና የተዋሃዱ ቁሶች በውሃ ውስጥ ያሉ ionዎችን እና ኦርጋኒክ ብከላዎችን ውጤታማ በሆነ መንገድ ማከም ይችላሉ፣ እና ለወደፊቱ የውሃ ማከሚያ መስኮች ጠቃሚ የመተግበር አቅም አላቸው። ይሁን እንጂ, አብዛኛው ምርምር አሁንም በቤተ ሙከራ ደረጃ ላይ ነው, እና ለወደፊቱ በውሃ ህክምና ውስጥ ፈጣን አተገባበርን ለማግኘት, የሚከተሉት ጉዳዮች አሁንም በአስቸኳይ መፍትሄ ያስፈልጋቸዋል.

(፩) በአንጻራዊነት ከፍተኛ የሆነ የናኖ ዝግጅት ዋጋሴኦ2በላብራቶሪ ምርምር ደረጃ ላይ ባሉ የውሃ ህክምና ውስጥ በአብዛኛዎቹ አፕሊኬሽኖቻቸው ውስጥ የተመሰረቱ ቁሳቁሶች ወሳኝ ነገር ሆኖ ይቆያል። በናኖ ሴኦ2 ላይ የተመረኮዙ ቁሳቁሶችን ሞርፎሎጂ እና መጠን መቆጣጠር የሚችሉ ርካሽ፣ ቀላል እና ውጤታማ የዝግጅት ዘዴዎችን ማሰስ አሁንም የጥናት ትኩረት ነው።

(2) ከጠቅላላው የናኦ ሴክተሮች አነስተኛ የንቱ ቅንጣቶች መጠን ምክንያት ከተጠቀሙ በኋላ እንደገና ጥቅም ላይ መዋል እና መልሶ ማገገም ማመልከቻውን የሚገዙ አስፈላጊ ሁኔታዎች ናቸው. ከሬንጅ ቁሶች ወይም መግነጢሳዊ ቁሶች ጋር ያለው ውህደት ለቁሳዊ ዝግጅት እና መልሶ ጥቅም ላይ ማዋል ቴክኖሎጂ ቁልፍ የምርምር አቅጣጫ ይሆናል.

(3) በናኖ CeO2 ላይ የተመሰረተ የቁሳቁስ ውሃ አያያዝ ቴክኖሎጂ እና በባህላዊ የፍሳሽ አያያዝ ቴክኖሎጂ መካከል ያለው የጋራ ሂደት ናኖ CeO2 ላይ የተመሰረተ የቁስ ካታሊቲክ ቴክኖሎጂ በውሃ ህክምና መስክ መተግበርን በእጅጉ ያበረታታል።

(4) በናኖ CeO2 ላይ በተመሰረቱ ቁሳቁሶች መርዛማነት ላይ አሁንም የተገደበ ምርምር አለ፣ እና የአካባቢ ባህሪያቸው እና በውሃ አያያዝ ስርዓቶች ውስጥ የመርዝ ዘዴያቸው ገና አልተወሰነም። ትክክለኛው የፍሳሽ ማጣሪያ ሂደት ብዙውን ጊዜ የበርካታ ብክሎች አብሮ መኖርን ያካትታል, እና አብረው ያሉት ብክለት እርስ በርስ መስተጋብር ይፈጥራል, በዚህም የንጣፍ ባህሪያትን እና የናኖሜትሪዎችን መርዛማነት ይለውጣል. ስለዚህ በተዛማጅ ጉዳዮች ላይ ተጨማሪ ምርምር ለማድረግ አስቸኳይ ፍላጎት አለ.