পারমাণবিক গ্রেড হাফনিয়াম অক্সাইড

সংক্ষিপ্ত বিবরণ:

পণ্যের নাম: পারমাণবিক গ্রেড হাফনিয়াম অক্সাইড
সিএএস: 12055-23-1
এমএফ: এইচএফও 2
মেগাওয়াট: 210.49
আইনেকস: 235-013-2

পণ্য বিশদ

পণ্য ট্যাগ

উপস্থিতি এবং বিবরণ ：

হাফনিয়াম অক্সাইডহাফনিয়ামের প্রধান অক্সাইড, এটি সাধারণ পরিস্থিতিতে সাদা গন্ধহীন এবং স্বাদহীন স্ফটিক।

নাম:হাফনিয়াম ডাই অক্সাইড	রাসায়নিক সূত্র:এইচএফও 2
আণবিক ওজন: 210.6	ঘনত্ব: 9.68 গ্রাম/সেমি 3
গলনাঙ্ক: 2850 ℃	ফুটন্ত পয়েন্ট: 5400 ℃

পণ্য বৈশিষ্ট্য ：

হাফনিয়াম অক্সাইডএক ধরণের অ-বিষাক্ত এবং স্বাদহীন সাদা শক্ত, পানিতে দ্রবীভূত নয়, হাইড্রোক্লোরিক অ্যাসিড এবং নাইট্রিক অ্যাসিড, ঘন সালফিউরিক অ্যাসিড এবং হাইড্রোজেন ফ্লোরাইড অ্যাসিডে দ্রবণীয় হন ； এগুলি রাসায়নিকভাবে জড়） 5 （15 ， 220 ～ 12000nm ； রিফেক্টিভ ইনডেক্স （250nm） 250nm ， 250nm （250nm ； 250nm ； 250nm ； 250nm ； 250nm পয়েন্ট, সুতরাং এটিতে শেষ ব্যবহারের বিস্তৃত পরিসীমা রয়েছে।

আবেদন ：

1) জন্য কাঁচামালহাফনিয়াম ধাতুএবং এর যৌগগুলি;

2) রিফ্র্যাক্টরি উপকরণ, বিরোধী তেজস্ক্রিয় আবরণ এবং বিশেষ অনুঘটক;

3) উচ্চ শক্তি কাচের আবরণ।

মানের মান:

এন্টারপ্রাইজ স্ট্যান্ডার্ড: রাসায়নিক রচনা টেবিল ভর ভগ্নাংশ/পারমাণবিক গ্রেড হাফনিয়াম অক্সাইডের%

পণ্য গ্রেড			প্রথম গ্রেড	দ্বিতীয় গ্রেড	তৃতীয় গ্রেড	দ্রষ্টব্য
পণ্য নম্বর			Shxlhfo2-01	Shxlhfo2-02	Shxlhfo2-03
রাসায়নিক রচনা (ভর ভগ্নাংশ)/%	অমেধ্য	এইচএফ ও₂	≥98	≥98	≥95
		Al	≤0.010	≤0.010	.0.020
		B	≤0.0025	≤0.0025	≤0.003
		Cd	≤0.0001	≤0.0001	≤0.0005
		Cr	≤0.005	≤0.005	≤0.010
		Cu	.00.002	.00.002	≤0.0025
		Fe	≤0.030	≤0.030	≤0.070
		Mg	≤0.010	≤0.010	≤0.015
		Mn	.00.001	.00.001	.00.002
		Mo	.00.001	.00.001	.00.002
		Ni	.00.002	.00.002	≤0.0025
		P	.00.001	.00.001	.00.002
		Si	≤0.010	≤0.010	≤0.015
		Sn	.00.002	.00.002	≤0.0025
		Ti	≤0.010	≤0.010	.0.020
		V	.00.001	.00.001	≤0.0015
		Zr	Zr≤0.20	0.20 ＜ zr ＜ 0.35	0.35 ＜ zr ＜ 0.50
		ইগলস (950 ℃)	＜ 1.0	＜ 1.0	＜ 2.0
		কণা	-325Mesh≥95%,-600Mesh≤35%