Niobium Silicide NbSi2 prah Cijena

Feature ofNiobium Silicide

Specifikacija proizvoda Niobium Silicide praha

Nano klasa (99,9%):10nm,20nm,30nm,40nm,50nm,80nm,100nm,200nm,300nm,500nm,800nm.

Micro grade (99,9%): 1um,3um,5um,10um,20um,30um,40nm,45um,75um,150um,200um,300um.

Parametri NiSi2 su sljedeći:
Hemijski sastav: Si: 4,3%, Mg:0,1%, ostatak je Ni

Gustina: 8.585g/cm3

Otpor: 0,365 Q mm2 / M
Temperaturni koeficijent otpora (20-100°C)689x10 minus 6. snaga / K Koeficijent termičkog širenja (20-100° C)17x10 minus 6. snaga / K
Toplotna provodljivost (100° C)27xwm negativna prva snaga K negativna prva snaga Tačka topljenja: 1309 °c
Područja primjene:
Silicij je najčešće korišteni poluvodički materijal. Različiti metalni silicidi su proučavani za tehnologiju kontakta i međusobnog povezivanja poluvodičkih uređaja. MoSi2, WSl i Ni2Si su uvedeni u razvoj mikroelektronskih uređaja. Ovi tanki filmovi na bazi silicijuma dobro se slažu sa silicijumskim materijalima i mogu se koristiti za izolaciju, izolaciju ,pasivacije i međusobnog povezivanja u silicijumskim uređajima,NiSi, kao najperspektivniji samousklađeni silicijumski materijal za nanorazmjerne uređaje, naširoko je proučavan zbog svog malog gubitka silicija i malog proračuna topline, niske otpornosti i bez efekta širine linije. U grafenskoj elektrodi, nikl silicid može odgoditi pojavu praha i pucanja silicijumske elektrode i poboljšati provodljivost elektrode. Efekti vlaženja i širenja legure Nisi2 na SiC keramiku kod različitih
ispitivane su temperature i atmosfera.