Niobijum silicide nbsi2 cena praha

ObilježjeNiobijum silicide

Specifikacija proizvodaNiobijum silicideu prahu

Nano stupanj (99,9%): 10nm, 20nm, 30nm, 40nm, 50nm, 80nm, 100nm, 200nm, 300nm, 500nm, 800nm.

Micro razred (99,9%): 1um, 3um, 5um, 10um, 20um, 30um, 40nm, 45um, 75um, 150um, 200um, 300um.

Parametri NISI2 su sljedeći:
Kemijski sastav: SI: 4,3%, mg: 0,1%, ostalo je NI

Gustina: 8.585g / cm3

Otpor: 0.365 q mm2 / m
Koeficijent temperature otpora (20-100 ° C) 689x10 minus 6. snaga / kcoeffekt termičkog širenja (20-100 ° C) 17x10 minus 6. snage / k
Termička provodljivost (100 ° C) 27xWM negativna prva snaga K negativna prvo PowerMellication tačka: 1309 ° C
Polja aplikacija:
Silicon je najčešće korišteni poluvodički materijal. Raznolikosti metalidiranih silikadi su bili uloženi za kontakt i interkonektivnu tehnologiju se poluvodičkih uređaja. Uvedeni su u razvoj mikroelektronskih uređaja. Toliko silikonskih filmova imaju dobar podudaranje sa silikonskim materijalima, i mogu se koristiti za izolaciju, izolaciju, nisi, kao najperspektivnija samopoštovanja Silicidematerija za nanoznale uređaje široko je proučavao za svoj mali proračun silicijuma i niskim formacijama, niskim otpornošću i bez linijskog efekta u grafikonu može odgoditi pojavu pullicije i provodljivosti elektrode. Vlaženje i širenje efekata Nisi2 na SIC keramiku na različite keramike
Istražene su temperature i atmosfere.