Tantal metal pulver

Kort beskrivelse:

Tantal metal pulver
Udseende: Mørkegrå pulver
Assay: 99,9% Min
Partikelstørrelse: 15-45 μm, 15-53 μm, 45-105 μm, 53-150 μm, 40nm, 70nm, 100nm, 200nm eller i henhold til kundens krav


Produktdetaljer

Produkt Tags

Produktbeskrivelse

Produktintroduktion afTantal metalpulver

Molekylformel: Ta

Atomnummer: 73

Massefylde: 16,68 g/cm³

Kogepunkt: 5425 ℃

Smeltepunkt: 2980 ℃

Vickers hårdhed i udglødet tilstand: 140HV miljø.

Renhed: 99,9 %

sfæricitet: ≥ 0,98

Hall flowhastighed: 13″ 29

løs densitet: 9,08g/cm3

taptæthed: 13,42g/cm3

partikelstørrelsesfordeling: 15-45 μm, 15-53 μm, 45-105 μm, 53-150 μm, 40nm, 70nm, 100nm, 200nm eller i henhold til kundens krav

Produktindeks påTantal metalpulver

PUNKT SPECIFIKATIONER TESTRESULTATER
Udseende Mørkegrå pulver Mørkegrå pulver
Assay 99,9 %Min 99,9 %
Partikelstørrelse   40nm, 70nm, 100nm, 200nm
Urenheder (%, maks.)
Nb 0,005 0,002
C 0,008 0,005
H 0,005 0,005
Fe 0,005 0,002
Ni 0,003 0,001
Cr 0,003 0,0015
Si 0,005 0,002
W 0,003 0,003
Mo 0,002 0,001
Ti 0,001 0,001
Mn 0,001 0,001
P 0,003 0,002
Sn 0,001 0,001
Ca 0,001 0,001
Al 0,001 0,001
Mg 0,001 0,001
Cu 0,001 0,001
N 0,015 0,005
O 0,2 0,13

Anvendelse af Tantalmetalpulver

Den tætte oxidfilm produceret på overfladen af ​​tantalpulver har egenskaberne af enfaset ledende ventilmetal, høj resistivitet, høj dielektrisk konstant, jordskælvsmodstand og lang levetid. Det har vigtige anvendelser inden for højteknologiske områder som elektronik, metallurgi, stål, kemiteknik, hårde legeringer, atomenergi, superledende teknologi, bilelektronik, rumfart, medicin og sundhed og videnskabelig forskning.

Fordele vedTantal metal pulver

1. Høj sfæriskhed

2. Få satellitbolde i pudderet

3. God flydeevne 4. Kontrollerbar partikelstørrelsesfordeling af pulveret

5. Næsten intet hult pulver

6. Høj løs densitet og tap tæthed

7. Kontrollerbar kemisk sammensætning og lavt iltindhold
Certifikat:

5

Hvad vi kan levere:

34


  • Tidligere:
  • Næste:

  • Relaterede produkter