Silicia germanio alojo si-ge pulvoro

Specifo:

1. Nomo:Silicia germanioalojo si-ge pulvoro

2. Pureco: 99.99%min

3. Partikla Grandeco: 325 Mesh, D90 <30um aŭ personecigita

4. Aspekto: Griza Nigra Pulvoro

5. MOQ: 1kg

Apliko:

Silicio-germana alojo, ofte konata kiel SI-GE, estas duonkondukta materialo, kiu altiris grandan atenton en diversaj altteknologiaj aplikoj pro siaj unikaj proprietoj. Silicia germanio-alojo Si-ge-pulvoro havas altan purecon de almenaŭ 99.99% kaj fajnan partiklan grandecon de 325 maŝo (D90 <30um), kaj estas ŝlosila ero de modernaj elektronikaj kaj fotonaj progresoj.

Unu el la ĉefaj aplikoj de silicio-germana alojo-pulvoro estas fabrikado de altfrekvencaj transistoroj kaj integritaj cirkvitoj. La alojo havas superan elektronan moveblecon kompare al pura silicio, igante ĝin ideala por disvolvi pli rapidajn, pli efikajn elektronikajn aparatojn. Ĉi tio estas aparte grava en la telekomunika sektoro, kie silicia germanio estas uzata en radiofrekvencaj (RF) aplikoj por produkti altfrekvencajn transistorojn kun plibonigitaj signalaj pretigaj kapabloj.

Krome, silicio-germana alojo-pulvoro ankaŭ ludas esencan rolon en la produktado de optoelektronikaj aparatoj kiel fotodetektiloj kaj laseraj diodoj. La kapablo de Si-Ge esti agordita por specifaj ondolongoj permesas la disvolviĝon de aparatoj, kiuj funkcias efike super larĝa spektra gamo, igante ĝin kritika por aplikoj en fibraj optikaj konektoj kaj sentanta teknologio.

Aldone, la aerspaca kaj defenda industrio profitas de la uzo de silicio-germanaj alojo-pulvoroj por disvolvi progresintajn materialojn, kiuj povas rezisti ekstremajn kondiĉojn. La termika stabileco kaj mekanika forto de la alojo igas ĝin taŭga por uzo en alt-temperaturaj medioj, kio estas kritika por satelita kaj spaca esplora teknologio.

En resumo, silicio-germana alojo Si-ge-pulvoro havas bonegan purecon kaj agordeblan partiklan grandecon, igante ĝin multfunkcia materialo uzebla en multaj kampoj kiel elektroniko, telekomunikado, aerospaco, ktp. Ĝiaj unikaj trajtoj daŭre antaŭenpuŝas novigadon kaj plibonigas la rendimenton de sekva-generacia aparatoj.