Tantala metala pulvoro

Mallonga Priskribo:

Tantala metala pulvoro
Aspekto: Malhela Griza Pulvoro
Testo: 99,9% Min
Partiklograndeco: 15-45 μ m, 15-53 μ m, 45-105 μ m, 53-150 μ m, 40 nm, 70 nm, 100 nm, 200 nm aŭ laŭ la postulo de kliento

Sendu retpoŝton al ni

Produkta Detalo

Produktaj Etikedoj

Produkta Priskribo

Produkta enkonduko deTantala metalopulvoro

Molekula formulo: Ta

Atoma numero: 73

Denso: 16,68 g/cm³

Bolpunkto: 5425 ℃

Fandpunkto: 2980 ℃

Vickers-malmoleco en recozita stato: 140HV medio.

Pureco: 99,9%

sfereco: ≥ 0,98

Halo-flukvanto: 13″ 29

loza denseco: 9,08g/cm3

frapeta denseco: 13,42 g/cm3

distribuo de partikla grandeco: 15-45 μ m, 15-53 μ m, 45-105 μ m, 53-150 μ m, 40 nm, 70 nm, 100 nm, 200 nm aŭ laŭ la postulo de kliento

Produkta indekso deTantala metalopulvoro

ITEMO	SPECIFICACIONS	Testrezultoj
Aspekto	Malhela Griza Pulvoro	Malhela Griza Pulvoro
Testo	99,9% Min	99,9 %
Partiklograndeco		40nm, 70nm, 100nm, 200nm
Malpuraĵoj (%, Maksimumo)
Nb	0.005	0.002
C	0,008	0.005
H	0.005	0.005
Fe	0.005	0.002
Ni	0,003	0.001
Cr	0,003	0.0015
Si	0.005	0.002
W	0,003	0,003
Mo	0.002	0.001
Ti	0.001	0.001
Mn	0.001	0.001
P	0,003	0.002
Sn	0.001	0.001
Ca	0.001	0.001
Al	0.001	0.001
Mg	0.001	0.001
Cu	0.001	0.001
N	0.015	0.005
O	0.2	0.13

Apliko de tantala metala pulvoro

La densa oksida filmo produktita sur la surfaco de tantala pulvoro havas la ecojn de unufaza kondukta valva metalo, alta rezisteco, alta dielektrika konstanto, tertrema rezisto kaj longa servodaŭro. Ĝi havas gravajn aplikojn en altteknologiaj kampoj kiel ekzemple elektroniko, metalurgio, ŝtalo, kemia inĝenierado, malmolaj alojoj, atomenergio, superkondukta teknologio, aŭta elektroniko, aerospaco, medicina kaj sano, kaj scienca esplorado.

Avantaĝoj deTantala metala pulvoro

1. Alta sfereco

2. Malmultaj satelitaj pilkoj en la pulvoro

3. Bona fluebleco 4. Regebla partiklogranda distribuo de la pulvoro

5. Preskaŭ neniu kava pulvoro

6. Alta malfiksa denseco kaj frapeta denseco

7. Kontrolebla kemia komponado kaj malalta oksigena enhavo
Atestilo：