Tantalum metala pulvoro

Mallonga Priskribo:

Tantalum metala pulvoro
Aspekto ： Malhela griza pulvoro
Provo ： 99.9%min
Partikla grandeco ： 15-45 μ m, 15-53 μ m, 45-105 μ m, 53-150 μ m, 40nm, 70nm, 100nm, 200nm aŭ laŭ la peto de kliento

Sendu retpoŝton al ni

Produkta Detalo

Produktaj Etikedoj

Produkta Priskribo

Produkta enkonduko deTantala metaloPulvoro

Molekula formulo: TA

Atomnumero: 73

Denseco: 16.68g/cm ³

Bolanta punkto: 5425 ℃

Fandpunkto: 2980 ℃

Vickers Hardness in annealed State: 140hv Environment.

Pureco: 99.9%

Sferikeco: ≥ 0,98

Halo -fluo: 13 ″ 29

loza denseco: 9.08g/cm3

Frapeta denseco: 13.42g/cm3

Distribuo de partikla grandeco: 15-45 μ m, 15-53 μ m, 45-105 μ m, 53-150 μ m, 40nm, 70nm, 100nm, 200nm aŭ laŭ la peto de kliento

Produkta Indekso deTantala metaloPulvoro

Ero	Specifoj	Testrezultoj
Aspekto	Malhelgriza pulvoro	Malhelgriza pulvoro
Provo	99.9%min	99.9%
Partikla grandeco		40nm, 70nm, 100nm, 200nm
Malpuraĵoj (%, maksimume)
Nb	0,005	0,002
C	0,008	0,005
H	0,005	0,005
Fe	0,005	0,002
Ni	0,003	0,001
Cr	0,003	0,0015
Si	0,005	0,002
W	0,003	0,003
Mo	0,002	0,001
Ti	0,001	0,001
Mn	0,001	0,001
P	0,003	0,002
Sn	0,001	0,001
Ca	0,001	0,001
Al	0,001	0,001
Mg	0,001	0,001
Cu	0,001	0,001
N	0.015	0,005
O	0.2	0.13

Apliko de tantala metala pulvoro

La densa oksida filmo produktita sur la surfaco de tantala pulvoro havas la proprietojn de unufazaj konduktaj valvaj metaloj, alta rezistiveco, alta dielektra konstanto, tertremo-rezisto kaj longa servo-vivo. Ĝi havas gravajn aplikojn en altteknologiaj kampoj kiel elektroniko, metalurgio, ŝtalo, kemia inĝenierado, malmolaj alojoj, atoma energio, superkondukta teknologio, aŭtomobila elektroniko, aerspaco, medicina kaj sano kaj scienca esplorado.

Avantaĝoj deTantalum metala pulvoro

1. Alta sferico

2. Malmultaj satelitaj buloj en la pulvoro

3. Bona fluebleco 4. Kontrolebla partikla grandeco distribuo de la pulvoro

5. Preskaŭ neniu kava pulvoro

6. Alta loza denseco kaj frapeta denseco

7. Kontrolebla Kemia Kunmetaĵo kaj Malalta Oksigena Enhavo
Atestilo：