Poudre de monoxyde de silicium nano sio à haute performance

Brève description:

Monoxyde de silicium Sio
Point d'ébullition: 1880 ° C
Point de fusion: 1720 ° C
Sensibilité: sensible à l'humidité
Conditions de stockage: Il est strictement interdit de stocker dans des emplacements humides et à haute température. Densité (GLCM3): 2.13
Numéro CAS: 10097-28-6
Application: Utilisé comme préparation de matières premières synthétiques en céramique fine, de verre optique et de matériaux semi-conducteurs. Il est évaporé dans un vide et enduit sur la surface du miroir métallique des instruments optiques comme un film de protection et la préparation de matériaux semi-conducteurs.


Détail du produit

Tags de produit

Description du produit

Caractéristique denano sio Poudre de monoxyde de silicium

1. Contrôle de la taille des particules: 100 nm-10 μm contrôlable, pour répondre aux besoins de diversification
2.

Application denano sio Poudre de monoxyde de silicium

1. Préparation de matériaux d'anode à base de silicium pour les précurseurs des matériaux d'anode de batteries secondaires au lithium
2. En tant que matières premières synthétiques en céramique fine, telles que le nitrure de silicium, les matières premières en poudre de céramique fine en carbure de silicium

Certificat

5

Ce que nous pouvons fournir

34


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