Polvo de monóxido de silicio nano SiO de alto rendemento

Breve descrición:

SiO Monóxido de silicio
Punto de ebulición: 1880 °C
Punto de fusión: 1720 °C
Sensibilidade: sensible á humidade
Condicións de almacenamento: está terminantemente prohibido almacenar en lugares húmidos e de alta temperatura. Densidade (glcm3): 2,13
Número CAS: 10097-28-6
Aplicación: úsase como preparación de materias primas sintéticas cerámicas finas, vidro óptico e materiais semicondutores. É evaporado ao baleiro e recuberto na superficie do espello metálico dos instrumentos ópticos como película protectora e a preparación de materiais semicondutores.


Detalle do produto

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Descrición do produto

Característica denano SiO Monóxido de silicio en po

1. Control de tamaño de partículas: controlable 100nm-10μm, para satisfacer as necesidades de diversificación
2. Alta pureza: máis do 99,9% ms un enlace Si-P con silicio nas partículas de silicio e distribúese uniformemente.

Aplicación denano SiO Monóxido de siliciopo

1. Preparación de materiais de ánodo a base de silicio para precursores de materiais de ánodo de baterías secundarias de iones de litio
2. Como materias primas sintéticas de cerámica fina, como nitruro de silicio, materias primas en po de cerámica fina de carburo de silicio

Certificado:

5

O que podemos proporcionar:

34


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