Tetracloruro de hafnio, tamén coñecido comocloruro de hafnio (IV) or HFCL4, é un composto co número CAS13499-05-3. Caracterízase por alta pureza, normalmente do 99,9%ao 99,99%e un baixo contido en circonio, ≤0,1%. A cor das partículas de tetracloruro de hafnio adoita ser branca ou branca, cunha densidade de 3,89 g/centímetro cúbico e un punto de fusión de 432 ° C. Destacable, rompe na auga, indicando que reacciona coa humidade.
Tetracloruro de hafnioPódese usar como precursor na produción de cerámica de temperatura de alta alta. Coñecida pola súa excelente estabilidade térmica, estas cerámicas úsanse nunha variedade de aplicacións de alta temperatura, como os sistemas de protección térmica na industria aeroespacial e a fabricación de ferramentas e crisoles de corte. A capacidade do composto para soportar as temperaturas extremas convérteo nun compoñente importante no desenvolvemento de materiais para tecnoloxías avanzadas e usos industriais.
Ademais,tetracloruro de hafnioxoga un papel fundamental no campo dos LED de alta potencia. Úsase na produción de fósfores, que son críticos para a funcionalidade dos LEDs. Os fosfores son materiais que emiten luz cando están expostos á radiación e son integrais ao rendemento LED convertendo a luz azul noutras cores, mellorando así a eficiencia global e a calidade da iluminación da cor.
Alta purezatetracloruro de hafnioPódese personalizar para reducir o contido de circonio a 200 ppm, garantindo que sexa adecuado para aplicacións esixentes onde as impurezas poden afectar negativamente ao produto final. Este nivel de pureza é fundamental para a síntese exitosa de materiais avanzados, onde o control preciso da composición química é crucial.
En resumo,tetracloruro de hafnio, coa súa excelente pureza e propiedades únicas, converteuse nun importante precursor para a produción de cerámica de temperatura ultra alta e xoga un papel importante no avance da tecnoloxía LED de alta potencia. A súa versatilidade e reactividade fan que sexa un compoñente integral no desenvolvemento de materiais para aplicacións industriais e técnicas de punta.
Tempo de publicación: agosto-27-2024