લેન્થેનમ હેક્સાબોરાઇડ LaB6 પાવડર

સંક્ષિપ્ત માહિતી:

લેન્થેનમ હેક્સાબોરેટલો વેલેન્સ બોરોન અને દુર્લભ ધાતુના તત્વ લેન્થેનમનું બનેલું અકાર્બનિક બિન-ધાતુ સંયોજન છે, જે ખાસ સ્ફટિક માળખું અને બોરાઇડ્સની મૂળભૂત લાક્ષણિકતાઓ ધરાવે છે. ભૌતિક ગુણધર્મોના પરિપ્રેક્ષ્યમાં, લેન્થેનમ હેક્સાબોરેટ LaB6 એ ક્યુબિક ક્રિસ્ટલ સ્ટ્રક્ચર સાથે મેટલ રીફ્રેક્ટરી સંયોજનથી સંબંધિત છે. તે ઉચ્ચ કઠિનતા, ઉચ્ચ વાહકતા, ઉચ્ચ ગલનબિંદુ, થર્મલ વિસ્તરણના નીચા ગુણાંક અને સારી રાસાયણિક સ્થિરતા જેવા ઉત્તમ ગુણધર્મો ધરાવે છે. તે જ સમયે, લેન્થેનમ હેક્સાબોરેટ ઊંચા તાપમાને ઉચ્ચ પ્રવાહની ઘનતા અને નીચા બાષ્પીભવન દરને ઉત્સર્જન કરે છે, અને આયન બોમ્બાર્ડમેન્ટ, મજબૂત ઇલેક્ટ્રિક ક્ષેત્ર અને રેડિયેશન સામે મજબૂત પ્રતિકાર ધરાવે છે. તેનો ઉપયોગ કેથોડ સામગ્રી, ઈલેક્ટ્રોન માઈક્રોસ્કોપી, ઈલેક્ટ્રોન બીમ વેલ્ડીંગ ક્ષેત્રોમાં થાય છે જેમાં ઉચ્ચ ઉત્સર્જન પ્રવાહની જરૂર હોય છે, જેમ કે ડિસ્ચાર્જ ટ્યુબ.

 લેન્થેનમ હેક્સાબોરેટસ્થિર રાસાયણિક ગુણધર્મો ધરાવે છે અને તે પાણી, ઓક્સિજન અથવા હાઇડ્રોક્લોરિક એસિડ સાથે પણ પ્રતિક્રિયા આપતું નથી; ઓરડાના તાપમાને, તે માત્ર નાઈટ્રિક એસિડ અને એક્વા રેજિયા સાથે પ્રતિક્રિયા આપે છે; ઓક્સિડેશન એરોબિક વાતાવરણમાં માત્ર 600-700 ℃ પર થાય છે. શૂન્યાવકાશ વાતાવરણમાં, LaB6 સામગ્રી નીચા ગલનબિંદુ પદાર્થો બનાવવા માટે અન્ય પદાર્થો અથવા વાયુઓ સાથે પ્રતિક્રિયા કરવાની સંભાવના ધરાવે છે; ઊંચા તાપમાને, રચાયેલા પદાર્થો સતત બાષ્પીભવન કરશે, જે લેન્થેનમ હેક્સાબોરેટ ક્રિસ્ટલની નીચી એસ્કેપ વર્ક સપાટીને ઉત્સર્જન સપાટી પર ખુલ્લું પાડશે, જેનાથી લેન્થેનમ હેક્સાબોરેટ ઉત્કૃષ્ટ ઝેર વિરોધી ક્ષમતા આપે છે.

આlanthanum hexaborateકેથોડ નીચા બાષ્પીભવન દર અને ઊંચા તાપમાને લાંબી સેવા જીવન ધરાવે છે. જ્યારે ઊંચા તાપમાને ગરમ થાય છે, ત્યારે સપાટી પરના મેટલ લેન્થેનમ અણુઓ બાષ્પીભવનના નુકશાનને કારણે ખાલી જગ્યાઓ ઉત્પન્ન કરે છે, જ્યારે આંતરિક ધાતુના લેન્થેનમ અણુઓ પણ ખાલી જગ્યાઓને પૂરક બનાવવા માટે ફેલાય છે, બોરોન ફ્રેમવર્ક માળખું યથાવત રાખે છે. આ ગુણધર્મ LaB6 કેથોડના બાષ્પીભવન નુકશાનને ઘટાડે છે અને તે જ સમયે સક્રિય કેથોડ સપાટીને જાળવી રાખે છે. સમાન ઉત્સર્જન વર્તમાન ઘનતા પર, ઊંચા તાપમાને LaB6 કેથોડ સામગ્રીનો બાષ્પીભવન દર સામાન્ય કેથોડ સામગ્રી કરતા ઓછો છે, અને નીચા બાષ્પીભવન દર એ કેથોડ્સના સેવા જીવનને વિસ્તારવામાં એક મહત્વપૂર્ણ પરિબળ છે.

અરજી:

1. લેન્થેનમ હેક્સાબોરેટ LaB6 કેથોડ સામગ્રી

ના ઊંચા તાપમાને ઉચ્ચ ઉત્સર્જન વર્તમાન ઘનતા અને નીચા બાષ્પીભવન દરLaB6 lanthanum hexaborateઔદ્યોગિક કાર્યક્રમોમાં ધીમે ધીમે કેટલાક ટંગસ્ટન કેથોડ્સને બદલીને તેને શ્રેષ્ઠ કામગીરી સાથે કેથોડ સામગ્રી બનાવો. હાલમાં, લેન્થેનમ હેક્સાબોરેટ સાથે LaB6 કેથોડ સામગ્રીના મુખ્ય ઉપયોગના ક્ષેત્રો નીચે મુજબ છે:

1.1 લશ્કરી અને અવકાશ તકનીક ક્ષેત્રોમાં માઇક્રોવેવ વેક્યુમ ઇલેક્ટ્રોનિક ઉપકરણો અને આયન થ્રસ્ટર્સ જેવા નવા તકનીકી ઉદ્યોગો, નાગરિક અને લશ્કરી ઉદ્યોગો દ્વારા જરૂરી ઉચ્ચ વ્યાખ્યા અને ઉચ્ચ વર્તમાન ઉત્સર્જન સાથે ડિસ્પ્લે અને ઇમેજિંગ ઉપકરણો અને ઇલેક્ટ્રોન બીમ લેસર. આ ઉચ્ચ તકનીકી ઉદ્યોગોમાં, નીચા તાપમાન, ઉચ્ચ એકરૂપતા ઉત્સર્જન, ઉચ્ચ વર્તમાન ઉત્સર્જન ઘનતા અને લાંબા આયુષ્ય સાથે કેથોડ સામગ્રીની માંગ હંમેશા ખૂબ જ ચુસ્ત રહી છે.

1.2 ઇલેક્ટ્રોન બીમ વેલ્ડીંગ ઉદ્યોગ, અર્થતંત્રના વિકાસ સાથે, ઇલેક્ટ્રોન બીમ વેલ્ડીંગ મશીનો, ઇલેક્ટ્રોન બીમ ગલન અને કેથોડ્સ સાથે કટીંગ સાધનોની જરૂર છે જે ઉચ્ચ વર્તમાન ઘનતા અને ઓછી એસ્કેપ વર્કની જરૂરિયાતોને પૂર્ણ કરી શકે છે. જો કે, પરંપરાગત સાધનો મુખ્યત્વે ટંગસ્ટન કેથોડ્સનો ઉપયોગ કરે છે (ઉચ્ચ એસ્કેપ વર્ક અને ઓછી વર્તમાન ઉત્સર્જન ઘનતા સાથે) જે એપ્લિકેશનની જરૂરિયાતોને પૂર્ણ કરી શકતા નથી. તેથી, LaB6 કેથોડ્સે તેમના શ્રેષ્ઠ પ્રદર્શન સાથે ટંગસ્ટન કેથોડ્સનું સ્થાન લીધું છે અને ઇલેક્ટ્રોન બીમ વેલ્ડીંગ ઉદ્યોગમાં વ્યાપકપણે ઉપયોગમાં લેવાય છે.

1.3 હાઇ-ટેક ટેસ્ટિંગ ઇન્સ્ટ્રુમેન્ટ ઉદ્યોગમાં,LaB6કેથોડ તેની ઊંચી તેજ, ​​લાંબી આયુષ્ય અને અન્ય લાક્ષણિકતાઓનો ઉપયોગ ઈલેક્ટ્રોનિક સાધનો જેમ કે ઈલેક્ટ્રોન માઈક્રોસ્કોપ, ઓગર સ્પેક્ટ્રોમીટર અને ઈલેક્ટ્રોન પ્રોબ્સમાં પરંપરાગત ગરમ કેથોડ સામગ્રી જેમ કે ટંગસ્ટન કેથોડને બદલવા માટે કરે છે.

1.4 પ્રવેગક ઉદ્યોગમાં, પરંપરાગત ટંગસ્ટન અને ટેન્ટેલમની સરખામણીમાં LaB6 આયન બોમ્બાર્ડમેન્ટ સામે ઉચ્ચ સ્થિરતા ધરાવે છે. પરિણામે,LaB6સિંક્રોટ્રોન અને સાયક્લોટ્રોન એક્સિલરેટર્સ જેવા વિવિધ બંધારણો ધરાવતા એક્સિલરેટરમાં કેથોડ્સનો વ્યાપકપણે ઉપયોગ થાય છે.

1.5 ધLaB6કેથોડ 1.5 ડિસ્ચાર્જ ટ્યુબ ઉદ્યોગમાં ગેસ ડિસ્ચાર્જ ટ્યુબ, લેસર ટ્યુબ અને મેગ્નેટ્રોન પ્રકારના એમ્પ્લીફાયરમાં લાગુ કરી શકાય છે.

2. LaB6, આધુનિક તકનીકમાં ઇલેક્ટ્રોનિક ઘટક તરીકે, નાગરિક અને સંરક્ષણ ઉદ્યોગોમાં વ્યાપકપણે ઉપયોગમાં લેવાય છે:

2.1 ઇલેક્ટ્રોન ઉત્સર્જન કેથોડ. નીચા ઇલેક્ટ્રોન એસ્કેપ કાર્યને લીધે, મધ્યમ તાપમાને સૌથી વધુ ઉત્સર્જન વર્તમાન સાથે કેથોડ સામગ્રી મેળવી શકાય છે, ખાસ કરીને ઉચ્ચ-ગુણવત્તાવાળા સિંગલ ક્રિસ્ટલ, જે ઉચ્ચ-શક્તિવાળા ઇલેક્ટ્રોન ઉત્સર્જન કેથોડ્સ માટે આદર્શ સામગ્રી છે.

2.2 ઉચ્ચ તેજ બિંદુ પ્રકાશ સ્ત્રોત. ઇલેક્ટ્રોન માઇક્રોસ્કોપ તૈયાર કરવા માટે ઉપયોગમાં લેવાતા મુખ્ય ઘટકો, જેમ કે ઓપ્ટિકલ ફિલ્ટર્સ, સોફ્ટ એક્સ-રે ડિફ્રેક્શન મોનોક્રોમેટર્સ અને અન્ય ઇલેક્ટ્રોન બીમ પ્રકાશ સ્ત્રોતો.

2.3 ઉચ્ચ સ્થિરતા અને ઉચ્ચ જીવનકાળ સિસ્ટમ ઘટકો. તેની ઉત્કૃષ્ટ વ્યાપક કામગીરી એન્જિનિયરિંગ ક્ષેત્રોમાં ઉચ્ચ-પ્રદર્શન ઘટકોના ઉત્પાદન માટે વિવિધ ઇલેક્ટ્રોન બીમ સિસ્ટમ્સ, જેમ કે ઇલેક્ટ્રોન બીમ કોતરણી, ઇલેક્ટ્રોન બીમ હીટ સોર્સ, ઇલેક્ટ્રોન બીમ વેલ્ડીંગ ગન અને એક્સિલરેટર્સમાં તેની એપ્લિકેશનને સક્ષમ કરે છે.

સ્પષ્ટીકરણ:

પ્રમાણપત્ર:

 અમે શું પ્રદાન કરી શકીએ છીએ: