Tantal metal poud

Deskripsyon kout:

Tantal metal poud
Aparans: poud gri fonse
Esè: 99.9% Min
Gwosè patikil: 15-45 μ m, 15-53 μ m, 45-105 μ m, 53-150 μ m, 40 nm, 70 nm, 100 nm, 200 nm oswa selon demann kliyan an

Voye imèl ba nou

Pwodwi detay

Tags pwodwi

Deskripsyon Product

Entwodiksyon pwodwi nanTantal metalpoud

Fòmil molekilè: Ta

Nimewo atomik: 73

Dansite: 16.68g/cm³

Pwen bouyi: 5425 ℃

Pwen k ap fonn: 2980 ℃

Vickers dite nan eta recuit: anviwònman 140HV.

Pite: 99.9%

sphericity: ≥ 0.98

Pousantaj koule Hall: 13″ 29

dansite ki lach: 9.08g / cm3

dansite tiyo: 13.42g/cm3

distribisyon gwosè patikil: 15-45 μ m, 15-53 μ m, 45-105 μ m, 53-150 μ m, 40nm, 70nm, 100nm, 200nm oswa selon demann kliyan an

Endèks pwodwi nan poud metal Tantal

ATIK	SPECIFICATIONS	REZILTA TÈS
Aparans	Poud gri nwa	Poud gri nwa
Esè	99.9% Min	99.9%
Gwosè patikil		40nm, 70nm, 100nm, 200nm
Enpurte (%, Max)
Nb	0.005	0.002
C	0.008	0.005
H	0.005	0.005
Fe	0.005	0.002
Ni	0.003	0.001
Cr	0.003	0.0015
Si	0.005	0.002
W	0.003	0.003
Mo	0.002	0.001
Ti	0.001	0.001
Mn	0.001	0.001
P	0.003	0.002
Sn	0.001	0.001
Ca	0.001	0.001
Al	0.001	0.001
Mg	0.001	0.001
Cu	0.001	0.001
N	0.015	0.005
O	0.2	0.13

Aplikasyon poud metal Tantal

Fim nan oksid dans ki pwodui sou sifas poud Tantal gen pwopriyete metal tiyo konduktif sèl-faz, segondè rezistivite, segondè konstan dyelèktrik, rezistans tranbleman tè, ak lavi sèvis long. Li gen aplikasyon enpòtan nan domèn gwo teknoloji tankou elektwonik, metaliji, asye, jeni chimik, alyaj difisil, enèji atomik, teknoloji superconducting, elektwonik otomobil, ayewospasyal, medikal ak sante, ak rechèch syantifik.

Avantaj nanTantal metal poud

1. Segondè sphericity

2. Kèk voye boul satelit nan poud lan

3. bon flowability 4. Kontwole renn gwosè distribisyon poud lan

5. Prèske pa gen poud kre

6. Segondè dansite ki lach ak dansite tiyo

7. Kontwole konpozisyon chimik ak kontni oksijèn ki ba
Sètifika：