Tantal poud metal

Kout deskripsyon:

Tantal poud metal
Aparans ： nwa poud gri
Assay ： 99.9%min
Gwosè patikil: 15-45 μ m, 15-53 μ m, 45-105 μ m, 53-150 μ m, 40nm, 70nm, 100nm, 200nm oswa selon demann kliyan an

Voye imèl ba nou

Detay Product

Tags pwodwi

Deskripsyon pwodwi

Entwodiksyon pwodwi nanTantal metalpoud

Fòmil molekilè: TA

Nimewo atomik: 73

Dansite: 16.68g/cm ³

Pwen bouyi: 5425 ℃

Pwen k ap fonn: 2980 ℃

Vickers dite nan eta rkwit: 140hv anviwònman.

Pite: 99.9%

esferik: ≥ 0.98

To koule sal: 13 ″ 29

Dansite ki lach: 9.08g/cm3

Tape Densite: 13.42g/cm3

Distribisyon gwosè patikil: 15-45 μ m, 15-53 μ m, 45-105 μ m, 53-150 μ m, 40Nm, 70Nm, 100Nm, 200nm oswa selon demann kliyan an

Pwodwi endèks nanTantal metalpoud

Sijè	Espesifikasyon	Rezilta tès yo
Aparisyon	Poud gri nwa	Poud gri nwa
Asay	99.9%min	99.9%
Gwosè patikil		40Nm, 70Nm, 100nm, 200nm
Enpurte (%, max)
Nb	0.005	0.002
C	0.008	0.005
H	0.005	0.005
Fe	0.005	0.002
Ni	0.003	0.001
Cr	0.003	0.0015
Si	0.005	0.002
W	0.003	0.003
Mo	0.002	0.001
Ti	0.001	0.001
Mn	0.001	0.001
P	0.003	0.002
Sn	0.001	0.001
Ca	0.001	0.001
Al	0.001	0.001
Mg	0.001	0.001
Cu	0.001	0.001
N	0.015	0.005
O	0.2	0.13

Aplikasyon nan poud tantal metal

Fim nan oksid dans ki te pwodwi sou sifas la nan poud tantal gen pwopriyete yo nan yon sèl-faz metal valv kondiktè, segondè rezistivite, segondè konstan dielèktrik, rezistans tranbleman tè, ak lavi sèvis long. Li gen aplikasyon enpòtan nan gwo teknoloji jaden tankou elektwonik, metaliji, asye, jeni chimik, alyaj difisil, enèji atomik, teknoloji superconducting, otomobil elektwonik, avyon, medikal ak sante, ak rechèch syantifik.

Avantaj nanTantal poud metal

1. Segondè sferikite

2. kèk voye boul satelit nan poud lan

3. Bon Flowability.

5. Prèske pa gen okenn poud kre

6. High dansite ki lach ak dansite tiyo

7. Konpozisyon chimik kontwole ak kontni oksijèn ki ba
Sètifika：