Harga bubuk Niobium Silicide NbSi2

Fitur dariNiobium Silisida

Spesifikasi produk bubuk Niobium Silicide

Kelas nano (99,9%):10nm,20nm,30nm,40nm,50nm,80nm,100nm,200nm,300nm,500nm,800nm.

Kelas mikro (99,9%):1um,3um,5um,10um,20um,30um,40nm,45um,75um,150um,200um,300um.

Parameter NiSi2 adalah sebagai berikut:
Komposisi kimia: Si: 4,3%,Mg:0,1%, sisanya Ni

Kepadatan: 8,585g/cm3

Resistansi: 0,365 Q mm2 / M
Koefisien suhu resistansi(20-100°C)689x10 minus daya 6/KKoefisien muai panas (20-100°C)17x10 minus daya 6/K
Konduktivitas termal (100° C)27xwm daya pertama negatif K daya pertama negatif Titik lebur: 1309 °c
Bidang aplikasi:
Silikon adalah bahan semikonduktor yang paling banyak digunakan. Berbagai silisida logam telah dipelajari untuk teknologi kontak dan interkoneksi perangkat semikonduktor. MoSi2, WSl dan Ni2Si telah diperkenalkan ke dalam pengembangan perangkat mikroelektronik. Film tipis berbasis silikon ini memiliki kecocokan yang baik dengan bahan silikon, dan dapat digunakan untuk isolasi, isolasi ,pasifasi dan interkoneksi dalam perangkat silikon, NiSi, sebagai bahan silisida self-aligned yang paling menjanjikan untuk perangkat skala nano, telah dipelajari secara luas karena kehilangan silikonnya yang rendah dan panas pembentukannya yang rendah. anggaran, resistivitas rendah dan tidak ada efek lebar garis Pada elektroda graphene, silisida nikel dapat menunda terjadinya penghancuran dan retaknya elektroda silikon, serta meningkatkan konduktivitas elektroda. Efek pembasahan dan penyebaran paduan nisi2 pada keramik SiC pada suhu yang berbeda-beda.
suhu dan atmosfer diselidiki.