니오브 규화물 NbSi2 분말 가격

특징니오브 규화물

니오브 규화물 분말의 제품 사양

나노 등급(99.9%):10nm,20nm,30nm,40nm,50nm,80nm,100nm,200nm,300nm,500nm,800nm.

마이크로 등급(99.9%):1um,3um,5um,10um,20um,30um,40nm,45um,75um,150um,200um,300um.

NiSi2의 매개변수는 다음과 같습니다.
화학 성분: Si: 4.3%, Mg:0.1%, 나머지는 Ni

밀도: 8.585g/cm3

저항: 0.365Qmm2/M
저항온도계수(20-100°C)689x10 - 6승 / K열팽창계수 (20-100°C)17x10 - 6승 / K
열 전도성(100°C)27xwm 음의 1차 전력 K 음의 1차 전력융점: 1309 °c
응용 분야:
실리콘은 가장 널리 사용되는 반도체 재료이다. 반도체 장치의 접촉 및 상호 연결 기술을 위해 다양한 금속 실리사이드가 연구되었습니다. MoSi2, WSl 및 Ni2Si는 마이크로 전자 장치 개발에 도입되었습니다. 이러한 실리콘 기반박막은 실리콘 재료와 잘 일치하며 절연, 분리에 사용할 수 있습니다. 실리콘 장치의 패시베이션 및 상호 연결 NiSi는 나노 규모 장치를 위한 가장 유망한 자체 정렬 규화물 물질로서 낮은 실리콘 손실 및 낮은 형성 열 예산, 낮은 특성으로 인해 널리 연구되어 왔습니다. 저항률 및 선폭 효과 없음 그래핀 전극에서 니켈 실리사이드는 실리콘 전극의 분쇄 및 균열 발생을 지연시키고 전극의 전도성을 향상시킬 수 있습니다. SiC 세라믹에 대한 nisi2 합금의 습윤 및 퍼짐 효과는 서로 다릅니다.
온도와 대기를 조사했습니다.