ଉଚ୍ଚ ଶୁଦ୍ଧତା ସିଲିକନ୍ ଅକ୍ସାଇଡ୍ / ସିଲିକନ୍ ଡାଇଅକ୍ସାଇଡ୍ / SiO2 / ସିଲିକା କ୍ୱାର୍ଟଜ୍ ପାଉଡର 99% -99.999% ନାନୋ ଏବଂ ମାଇକ୍ରୋନ୍ କଣିକା ସହିତ |
ସଂକ୍ଷିପ୍ତ ପରିଚୟ
ଉତ୍ପାଦ ନାମ: ସିଲିକନ୍ ଅକ୍ସାଇଡ୍ SiO2 |
ଶୁଦ୍ଧତା: 99% -99.999%
କଣିକା ଆକାର: 20-30nm, 50nm, 100nm, 45um, 100un, 200um, ଇତ୍ୟାଦି |
ପ୍ରକାର: ହାଇଡ୍ରୋଫିଲିକ୍, ହାଇଡ୍ରୋଫୋବିକ୍ |
ରଙ୍ଗ: ଧଳା ପାଉଡର |
ବଲ୍କ ଘନତା: <0.10 g / cm3 |
ପ୍ରକୃତ ଘନତା: 2.4 g / cm3 |
ଅଲ୍ଟ୍ରାଟୋଇଲେଟ୍ ପ୍ରତିଫଳନ:> 75%
ଶୁଦ୍ଧତା: 99% -99.999%
କଣିକା ଆକାର: 20-30nm, 50nm, 100nm, 45um, 100un, 200um, ଇତ୍ୟାଦି |
ପ୍ରକାର: ହାଇଡ୍ରୋଫିଲିକ୍, ହାଇଡ୍ରୋଫୋବିକ୍ |
ରଙ୍ଗ: ଧଳା ପାଉଡର |
ବଲ୍କ ଘନତା: <0.10 g / cm3 |
ପ୍ରକୃତ ଘନତା: 2.4 g / cm3 |
ଅଲ୍ଟ୍ରାଟୋଇଲେଟ୍ ପ୍ରତିଫଳନ:> 75%
ବ Features ଶିଷ୍ଟ୍ୟଗୁଡିକ:
ସେମାନଙ୍କ ଗଠନ ଅନୁଯାୟୀ ନାନୋ-ସିଲିକା କଣିକାକୁ ଦୁଇ ପ୍ରକାରରେ ବିଭକ୍ତ କରାଯାଇଛି: ପି-ପ୍ରକାର (ପୋରସ୍ କଣିକା) ଏବଂ S- ପ୍ରକାର (ଗୋଲାକାର କଣିକା) |ପି-ପ୍ରକାର ନାନୋ-ସିଲିକା ପୃଷ୍ଠରେ 0.611ml / g ର ପୋର ହାର ସହିତ ଅନେକ ନାନୋ-ପୋରସ୍ ଥାଏ |ତେଣୁ, P- ପ୍ରକାରର S- ପ୍ରକାର ତୁଳନାରେ ବହୁତ ବଡ଼ SSA ଅଛି (US3440 ଦେଖନ୍ତୁ) |US3436 ହେଉଛି S- ପ୍ରକାର ଏବଂ ଏହାର SSA ହେଉଛି ~ 170-200m2 / g |ଆହୁରି ଅଧିକ, P- ପ୍ରକାର ଅଲ୍ଟ୍ରାଟୋଇଲେଟ୍ ପ୍ରତିଫଳନ ହେଉଛି> 85%, S- ପ୍ରକାର:> 75% |
ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ
| ଉତ୍ପାଦ | ସିଲିକନ୍ ଅକ୍ସାଇଡ୍ | | ||
| କଣିକା ଆକାର | | 100um | ||
| ଗୁଣବତ୍ତା | GB / T 3185-2016 | ପରିମାଣ: | 5000.00 କିଲୋଗ୍ରାମ | |
| ବ୍ୟାଚ୍ ନଂ | 18120612 | ସମାପ୍ତି ତାରିଖ | ଡିସେମ୍ବର 05, 2020 |
| ଉତ୍ପାଦନ ତାରିଖ: | ଡିସେମ୍ବର 06, 2018 | ପରୀକ୍ଷା ତାରିଖ: | ଡିସେମ୍ବର 06, 2018 |
| ପରୀକ୍ଷା ଆଇଟମ୍ | | ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟକରଣ | ଫଳାଫଳ | |
| ଦୃଶ୍ୟ | ଧଳା ପାଉଡର | | ଧଳା ପାଉଡର | | |
| SiO2 | > 99.99% | 99.996% | |
| Al | ≤30 ppm | 26.48 ppm | |
| Ca | ≤6 ppm | 5.6 ppm | |
| Cu | ≤1 ppm | 0.11 ppm | |
| Fe | ≤2 ppm | 1.87 ppm | |
| K | ≤2 ppm | 1.48 ppm | |
| Mg | ≤1 ppm | 0.53 ppm | |
| Na | ≤5 ppm | 4.69 ppm | |
| Ni | ≤0.5 ppm | 0.03 ppm | |
| Mn | ≤0.3 ppm | 0.11 ppm | |
| Ti | ≤4 ppm | 3.68 ppm | |
| ଉପସଂହାର: | ଏଣ୍ଟରପ୍ରାଇଜ୍ ମାନାଙ୍କ ପାଳନ କରନ୍ତୁ | | ||
ପରୀକ୍ଷା ପଦ୍ଧତି:
1. ଟ୍ରାନ୍ସମିସନ୍ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନ ମାଇକ୍ରୋସ୍କୋପି (TEM) ପଦ୍ଧତି, ନାନୋ-ସିଲିକା କଣିକାର ଛୋଟ ଆକାର, ସଂକୀର୍ଣ୍ଣ କଣିକା ଆକାର ବଣ୍ଟନ ଅଛି |
2. BET ପଦ୍ଧତି, ନାନୋ-ସିଲିକା କଣିକାର ବୃହତ ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ପୃଷ୍ଠଭୂମି ଅଛି |
3. ଇନଫ୍ରାଡ୍ ସ୍ପେକ୍ଟ୍ରସ୍କୋପି ପ୍ରଣାଳୀ, ନାନୋ-ସିଲିକା କଣିକା ବହୁ ସଂଖ୍ୟକ ହାଇଡ୍ରକ୍ସିଲ୍ ଗୋଷ୍ଠୀ ଏବଂ ଏହାର ପୃଷ୍ଠରେ ଅସନ୍ତୁଳିତ ଅବଶିଷ୍ଟ ବନ୍ଧଗୁଡିକ ବିଦ୍ୟମାନ ଅଛି ଏବଂ ସିଲିକନ୍ ଅକ୍ସାଇଡ୍ ସଂରଚନାର ସ୍ଥିର ସ୍ଥିତିରୁ ବିଚ୍ୟୁତ ସୃଷ୍ଟି କରେ |
4. କ୍ୟାରି -5 ଇ ସ୍ପେକ୍ଟ୍ରଫୋଟୋମିଟର ପରୀକ୍ଷଣ ପଦ୍ଧତି, ନାନୋ-ସିଲିକା କଣିକା - ଲମ୍ବା ତରଙ୍ଗ ପାଇଁ ଉଚ୍ଚ ପ୍ରତିଫଳନ ଏବଂ UV ବିଷୟରେ ଦୃଶ୍ୟମାନ ଆଲୋକ |
5. Omnisorp100CX ଭୂପୃଷ୍ଠ ଏବଂ ପୋରୋସିଟି ଆନାଲିଜର୍, ପି-ପ୍ରକାର ନାନୋ-ସିଲିକା ପୃଷ୍ଠରେ 0.611ml / g ର ପୋର ହାର ସହିତ ଅନେକ ନାନୋ ପୋରସ୍ ଥାଏ |
2. BET ପଦ୍ଧତି, ନାନୋ-ସିଲିକା କଣିକାର ବୃହତ ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ପୃଷ୍ଠଭୂମି ଅଛି |
3. ଇନଫ୍ରାଡ୍ ସ୍ପେକ୍ଟ୍ରସ୍କୋପି ପ୍ରଣାଳୀ, ନାନୋ-ସିଲିକା କଣିକା ବହୁ ସଂଖ୍ୟକ ହାଇଡ୍ରକ୍ସିଲ୍ ଗୋଷ୍ଠୀ ଏବଂ ଏହାର ପୃଷ୍ଠରେ ଅସନ୍ତୁଳିତ ଅବଶିଷ୍ଟ ବନ୍ଧଗୁଡିକ ବିଦ୍ୟମାନ ଅଛି ଏବଂ ସିଲିକନ୍ ଅକ୍ସାଇଡ୍ ସଂରଚନାର ସ୍ଥିର ସ୍ଥିତିରୁ ବିଚ୍ୟୁତ ସୃଷ୍ଟି କରେ |
4. କ୍ୟାରି -5 ଇ ସ୍ପେକ୍ଟ୍ରଫୋଟୋମିଟର ପରୀକ୍ଷଣ ପଦ୍ଧତି, ନାନୋ-ସିଲିକା କଣିକା - ଲମ୍ବା ତରଙ୍ଗ ପାଇଁ ଉଚ୍ଚ ପ୍ରତିଫଳନ ଏବଂ UV ବିଷୟରେ ଦୃଶ୍ୟମାନ ଆଲୋକ |
5. Omnisorp100CX ଭୂପୃଷ୍ଠ ଏବଂ ପୋରୋସିଟି ଆନାଲିଜର୍, ପି-ପ୍ରକାର ନାନୋ-ସିଲିକା ପୃଷ୍ଠରେ 0.611ml / g ର ପୋର ହାର ସହିତ ଅନେକ ନାନୋ ପୋରସ୍ ଥାଏ |
ପ୍ରୟୋଗ:
1 ରବର ସଂଶୋଧିତ, ସିଲାଣ୍ଟ ସେରାମିକ୍ କଠିନ ପରିବର୍ତ୍ତନ, ଆଡେସିଭ୍, କାର୍ଯ୍ୟକ୍ଷମ ଫାଇବର ଆଡିଟିଭ୍, ପ୍ଲାଷ୍ଟିକ୍ ମୋଡିଫିକେସନ୍, ପେଣ୍ଟ୍ |
ବାର୍ଦ୍ଧକ୍ୟ ଯୋଗୀ;
2 ସେରାମିକ୍ସ, ନାନୋ ସେରାମିକ୍, କମ୍ପୋଜିଟ୍ ସେରାମିକ୍ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍;
3 ପଲିମର: ତାପଜ ସ୍ଥିରତା ଏବଂ ଆଣ୍ଟି-ଏଜିଂ ପଲିମର ବୃଦ୍ଧି କରିପାରିବ;
4 ଫ୍ଲେମ୍ ରିଟାର୍ଡାଣ୍ଟ ସାମଗ୍ରୀ ଏବଂ ଆବରଣ, ଉଚ୍ଚ ଗ୍ରାଇଣ୍ଡିଂ ମାଧ୍ୟମ, ପ୍ରସାଧନ ସାମଗ୍ରୀ;
5 କ୍ଲଷ୍ଟର ବଟିଲ ବେନଜେନ ଏବଂ କ୍ଲୋରାଇଟେଡ୍ ପଲିଥାଇଲରେ ଅଳ୍ପ ପରିମାଣର ନାନୋ SiO2 ଉତ୍ପାଦନ ରଙ୍ଗ ରବର ଟେନାସିଟି ଯୋଗକରି,
ବିସ୍ତାର, ଶକ୍ତି, ଫ୍ଲେକ୍ସଚରାଲ୍ କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ଏବଂ ଅଲଟ୍ରାଭାଇଓଲେଟ୍ ପ୍ରତିରୋଧ ଏବଂ ତାପଜ ବାର୍ଦ୍ଧକ୍ୟ କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ଏବଂ epdm ହାସଲ କିମ୍ବା ଅତିକ୍ରମ କରିବା;
ପାରମ୍ପାରିକ ଆବରଣରେ ଅଳ୍ପ ପରିମାଣର ନାନୋ ସିଲିକନ୍ ଅକ୍ସାଇଡ୍ ଯୋଗକରି, ନିଲମ୍ବନ ସ୍ଥିରତା, ଥିକ୍ସୋଟ୍ରପି ଏବଂ ଗରିବ, ଖରାପ ଫିନିଶ୍ ଭଲ ସମାଧାନ କରନ୍ତୁ |
ବାର୍ଦ୍ଧକ୍ୟ ଯୋଗୀ;
2 ସେରାମିକ୍ସ, ନାନୋ ସେରାମିକ୍, କମ୍ପୋଜିଟ୍ ସେରାମିକ୍ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍;
3 ପଲିମର: ତାପଜ ସ୍ଥିରତା ଏବଂ ଆଣ୍ଟି-ଏଜିଂ ପଲିମର ବୃଦ୍ଧି କରିପାରିବ;
4 ଫ୍ଲେମ୍ ରିଟାର୍ଡାଣ୍ଟ ସାମଗ୍ରୀ ଏବଂ ଆବରଣ, ଉଚ୍ଚ ଗ୍ରାଇଣ୍ଡିଂ ମାଧ୍ୟମ, ପ୍ରସାଧନ ସାମଗ୍ରୀ;
5 କ୍ଲଷ୍ଟର ବଟିଲ ବେନଜେନ ଏବଂ କ୍ଲୋରାଇଟେଡ୍ ପଲିଥାଇଲରେ ଅଳ୍ପ ପରିମାଣର ନାନୋ SiO2 ଉତ୍ପାଦନ ରଙ୍ଗ ରବର ଟେନାସିଟି ଯୋଗକରି,
ବିସ୍ତାର, ଶକ୍ତି, ଫ୍ଲେକ୍ସଚରାଲ୍ କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ଏବଂ ଅଲଟ୍ରାଭାଇଓଲେଟ୍ ପ୍ରତିରୋଧ ଏବଂ ତାପଜ ବାର୍ଦ୍ଧକ୍ୟ କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ଏବଂ epdm ହାସଲ କିମ୍ବା ଅତିକ୍ରମ କରିବା;
ପାରମ୍ପାରିକ ଆବରଣରେ ଅଳ୍ପ ପରିମାଣର ନାନୋ ସିଲିକନ୍ ଅକ୍ସାଇଡ୍ ଯୋଗକରି, ନିଲମ୍ବନ ସ୍ଥିରତା, ଥିକ୍ସୋଟ୍ରପି ଏବଂ ଗରିବ, ଖରାପ ଫିନିଶ୍ ଭଲ ସମାଧାନ କରନ୍ତୁ |
