Pó de monóxido de silício Nano SiO de alto desempenho

Breve descrição:

Monóxido de silício SIO
Ponto de ebulição: 1880 ° C.
Ponto de fusão: 1720 ° C.
Sensibilidade: sensível à umidade
Condições de armazenamento: É estritamente proibido armazenar em locais úmidos e de alta temperatura. Densidade (GLCM3): 2.13
Número CAS: 10097-28-6
APLICAÇÃO: Utilizada como a preparação de matérias -primas sintéticas de cerâmica fina, vidro óptico e materiais semicondutores. É evaporado no vácuo e revestido na superfície do espelho de metal dos instrumentos ópticos como um filme de proteção e a preparação de materiais semicondutores.

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Característica deNano Sio Poto de monóxido de silício

1. Controle de tamanho de partícula: 100nm-10μm controlável, para atender às necessidades de diversificação
2. Alta pureza: mais de 99,9%ms a liga Si-P com silício nas partículas de silício e é distribuído uniformemente.

Aplicação deNano Sio Poto de monóxido de silício

1. Preparação de materiais de ânodo baseados em silício para precursores de materiais de ânodo de baterias secundárias de íons de lítio
2. Como um fino matérias -primas sintéticas de cerâmica, como nitreto de silício, carboneto de silício Cerâmica fina em pó cru de matérias -primas

Certificado：