Высокая производительность нано сиокись наносимого монооксида

Высокопроизводительный монооксидный порошок Nano Sio.

Краткое описание:

Сио Силиконовый Окись
Точка кипения: 1880 ° C.
Точка плавления: 1720 ° C.
Чувствительность: чувствительна к влажности
Условия хранения: строго запрещено хранить во влажных и высоких местах. Плотность (GLCM3): 2.13
Номер CAS: 10097-28-6
Применение: используется в качестве приготовления тонкого керамического синтетического сырья, оптического стекла и полупроводниковых материалов. Он испарится в вакууме и покрыт металлическим зеркальным поверхностью оптических инструментов в качестве защитной пленки и приготовлении полупроводниковых материалов.

Отправить нам электронное письмо

Деталь продукта

Теги продукта

Описание продукта

ОсобенностьНано Сио Силиконовый ороксид порошок

1. Контроль размера частиц: 100 нм-10 мкм контролируется, для удовлетворения потребностей диверсификации
2. Высокая чистота: более 99,9%MS-связь SI-P с кремнием в кремниевых частицах и равномерно распределена.

ПрименениеНано Сио Силиконовый ороксид порошок

1. Приготовление анодных материалов на основе кремния для предшественников анодных материалов литий -ионных вторичных батарей
2. В качестве тонкого керамического синтетического сырья, такого как нитрид кремния, кремниевый карбид мелкий керамический сырье

Сертификат：