Niobijev silicid NbSi2 prah Cena

ZnačilnostNiobijev silicid

Specifikacija izdelka prahu niobijevega silicida

Nano razred (99,9%): 10nm, 20nm, 30nm, 40nm, 50nm, 80nm, 100nm, 200nm, 300nm, 500nm, 800nm.

Mikro razred (99,9%): 1um, 3um, 5um, 10um, 20um, 30um, 40nm, 45um, 75um, 150um, 200um, 300um.

Parametri NiSi2 so naslednji:
Kemična sestava: Si: 4,3%, Mg: 0,1%, ostalo je Ni

Gostota: 8,585g/cm3

Upornost: 0,365 Q mm2 / M
Temperaturni koeficient upora (20-100 ° C) 689x10 minus 6. potenca / K Koeficient toplotne razteznosti (20-100 ° C) 17x10 minus 6. potenca / K
Toplotna prevodnost (100° C) 27xwm negativna prva moč K negativna prva moč Tališče: 1309 °c
Polja uporabe:
Silicij je najbolj razširjen polprevodniški material. Različni kovinski silicidi so bili raziskani za kontaktno in medsebojno povezovalno tehnologijo polprevodniških naprav. MoSi2, WSl in Ni2Si so bili uvedeni v razvoj mikroelektronskih naprav. Ti tanki filmi na osnovi silicija se dobro ujemajo s silicijevimi materiali in se lahko uporabljajo za izolacijo, izolacijo ,pasivacija in medsebojno povezovanje v silicijevih napravah, NiSi, kot najbolj obetavna samoporavnana Silicijev material za naprave v nanometrskem merilu je bil obsežno raziskan zaradi nizke izgube silicija in nizkega proračuna toplote za nastajanje, nizke upornosti in brez učinka širine črte. V grafenski elektrodi lahko nikljev silicid upočasni pojav prašenja in pokanja silicijeve elektrode ter izboljša prevodnost elektrode. učinki vlaženja in širjenja zlitine nisi2 na SiC keramiko pri različnih
temperature in atmosfere so bile raziskane.