הויך ריינקייַט סיליציום אַקסייד / סיליציום דייאַקסייד / סיאָ 2 / סיליקאַ קוואַרץ פּודער 99% -99.999% מיט נאַנאָ און מייקראַן פּאַרטיקאַלז
קורץ הקדמה
פּראָדוקט נאָמען:סיליציום אַקסייד סיאָ2
ריינקייַט: 99% -99.999%
פּאַרטאַקאַל גרייס: 20-30nm, 50nm, 100nm, 45um, 100un, 200um, עטק
טיפּ: כיידראָופיליק, כיידראָפאָביק
קאָליר: ווייַס פּודער
פאַרנעם געדיכטקייַט: <0.10 ג/קמ3
אמת געדיכטקייַט: 2.4 ג/קמ3
אַלטראַווייאַליט רעפלעקטיוויטי:>75%.
ריינקייַט: 99% -99.999%
פּאַרטאַקאַל גרייס: 20-30nm, 50nm, 100nm, 45um, 100un, 200um, עטק
טיפּ: כיידראָופיליק, כיידראָפאָביק
קאָליר: ווייַס פּודער
פאַרנעם געדיכטקייַט: <0.10 ג/קמ3
אמת געדיכטקייַט: 2.4 ג/קמ3
אַלטראַווייאַליט רעפלעקטיוויטי:>75%.
פֿעיִקייטן:
נאַנאָ-סיליקאַ פּאַרטאַקאַלס לויט צו זייער סטרוקטור זענען צעטיילט אין צוויי טייפּס: פּ-טיפּ (פּאָרעאַס פּאַרטיקאַלז) און ד-טיפּ (ספעריש פּאַרטיקאַלז). פּ-טיפּ נאַנאָ-סיליקאַ ייבערפלאַך כּולל אַ נומער פון נאַנאָ-פּאָרעז מיט די פּאָרע קורס פון 0.611 מל / ג; דעריבער, פּ-טיפּ האט פיל גרעסערע SSA קאַמפּערד צו S-טיפּ (זען US3440). US3436 איז S-טיפּ און זייַן SSA איז ~ 170-200 מ 2 / ג. נאָך מער, P-טיפּע אַלטראַווייאַליט רעפלעקטיוויטי איז> 85%, S-טיפּ:> 75%.
ספּעציפֿיש
| פּראָדוקט | סיליציום אַקסייד | ||
| פּאַרטאַקאַל גרייס | 100ום | ||
| קוואַליטעט | GB/T 3185-2016 | קוואַנטיטי: | 5000.00 קג |
| פּעקל נומ. | 18120612 | עקספּיירי טאָג | 5 דעצעמבער 2020 |
| דאַטע פון מאַנופאַקטורינג: | 06 דעצעמבער 2018 | טאָג פון פּרובירן: | 06 דעצעמבער 2018 |
| פּרובירן נומער | באַשרייַבונג | רעזולטאַטן | |
| אויסזען | ווייַס פּודער | ווייַס פּודער | |
| SiO2 | >99.99% | 99.996% | |
| Al | ≤30 פּיפּיעם | 26.48 פּיפּיעם | |
| Ca | ≤6 פּיפּיעם | 5.6 פּיפּיעם | |
| Cu | ≤1 פּיפּיעם | 0.11 פּיפּיעם | |
| Fe | ≤2 פּיפּיעם | 1.87 פּיפּיעם | |
| K | ≤2 פּיפּיעם | 1.48 פּיפּיעם | |
| Mg | ≤1 פּיפּיעם | 0.53 פּיפּיעם | |
| Na | ≤5 פּיפּיעם | 4.69 פּיפּיעם | |
| Ni | ≤0.5 פּיפּיעם | 0.03 פּיפּיעם | |
| Mn | ≤0.3 פּיפּיעם | 0.11 פּיפּיעם | |
| Ti | ≤4 פּיפּיעם | 3.68 פּיפּיעם | |
| מסקנא: | נאָכקומען מיט די פאַרנעמונג נאָרמאַל | ||
טעסט מעטהאָדס:
1. טראַנסמיסיע עלעקטראָן מיקראָסקאָפּי (TEM) אופֿן,נאַנאָ-סיליקאַ פּאַרטאַקאַלהאט קליין גרייס, שמאָל פּאַרטאַקאַל גרייס פאַרשפּרייטונג.
2. געוועט אופֿן, נאַנאָ-סיליקאַ פּאַרטאַקאַל האט אַ גרויס ספּעציפיש ייבערפלאַך געגנט.
3. ינפרערעד ספּעקטראָסקאָפּי אופֿן, נאַנאָ-סיליקאַ פּאַרטאַקאַל יגזיסץ אַ גרויס נומער פון הידראָקסיל גרופּעס און אַנסאַטשערייטיד ריזידזשואַל קייטן אויף זייַן ייבערפלאַך, און פארמען די דיווייישאַן פון די פעסט שטאַט פון די סיליציום אַקסייד סטרוקטור.
4. Cary-5E ספּעקטראָפאָטאָמעטער טעסטינג אופֿן, נאַנאָ-סיליקאַ פּאַרטיקאַלז - הויך רעפלעקטיוויטי צו לאַנג כוואַליע און קענטיק ליכט וועגן ווו.
5. אָמניסאָרפּ100קקס ייבערפלאַך געגנט און פּאָראָסיטי אַנאַליזער, פּ-טיפּ נאַנאָ-סיליקאַ ייבערפלאַך כּולל אַ נומער פון נאַנאָ פּאָרעז מיט די פּאָרע קורס פון 0.611 מל / ג.
2. געוועט אופֿן, נאַנאָ-סיליקאַ פּאַרטאַקאַל האט אַ גרויס ספּעציפיש ייבערפלאַך געגנט.
3. ינפרערעד ספּעקטראָסקאָפּי אופֿן, נאַנאָ-סיליקאַ פּאַרטאַקאַל יגזיסץ אַ גרויס נומער פון הידראָקסיל גרופּעס און אַנסאַטשערייטיד ריזידזשואַל קייטן אויף זייַן ייבערפלאַך, און פארמען די דיווייישאַן פון די פעסט שטאַט פון די סיליציום אַקסייד סטרוקטור.
4. Cary-5E ספּעקטראָפאָטאָמעטער טעסטינג אופֿן, נאַנאָ-סיליקאַ פּאַרטיקאַלז - הויך רעפלעקטיוויטי צו לאַנג כוואַליע און קענטיק ליכט וועגן ווו.
5. אָמניסאָרפּ100קקס ייבערפלאַך געגנט און פּאָראָסיטי אַנאַליזער, פּ-טיפּ נאַנאָ-סיליקאַ ייבערפלאַך כּולל אַ נומער פון נאַנאָ פּאָרעז מיט די פּאָרע קורס פון 0.611 מל / ג.
אַפּפּליקאַטיאָן:
1 גומע מאַדאַפייד, סילאַנט סעראַמיק טאַפינג מאָדיפיקאַטיאָן, אַדכיסיווז, פאַנגקשאַנאַל פיברע אַדאַטיוו, פּלאַסטיק מאָדיפיקאַטיאָן, פאַרב
יידזשינג אַדאַטיווז;
2 סעראַמיקס, נאַנאָ סעראַמיק, קאַמפּאַזאַט סעראַמיק סאַבסטרייט;
3 פּאָלימער: קענען פאַרגרעסערן די טערמאַל פעסטקייַט און אַנטי-יידזשינג פּאָלימער;
4 פלאַם ריטאַרדאַנט מאַטעריאַלס און קאָוטינגז, הויך גרינדינג מיטל, קאָסמעטיק פּראָדוקטן;
5 אין קנויל בוטיל בענזין און קלאָראַנייטיד פּאַליעטאַלין אַדינג אַ קליין סומע פוןnano SiO2פּראָדוצירן קאָליר גומע אַקשאָנעס,
ילאָנגגיישאַן, שטאַרקייַט, פלעקסוראַל פאָרשטעלונג און אַלטראַווייאַליט קעגנשטעל און טערמאַל יידזשינג פאָרשטעלונג און דערגרייכן אָדער יקסיד עפּדם;
6 אין טראדיציאנעלן קאָוטינג אַדינג אַ קליין סומע פון נאַנאָ סיליציום אַקסיידז, גוט סאָלווע די סאַספּענשאַן פעסטקייַט, טהיקסאָטראָפּי און נעבעך, נעבעך ענדיקן.
יידזשינג אַדאַטיווז;
2 סעראַמיקס, נאַנאָ סעראַמיק, קאַמפּאַזאַט סעראַמיק סאַבסטרייט;
3 פּאָלימער: קענען פאַרגרעסערן די טערמאַל פעסטקייַט און אַנטי-יידזשינג פּאָלימער;
4 פלאַם ריטאַרדאַנט מאַטעריאַלס און קאָוטינגז, הויך גרינדינג מיטל, קאָסמעטיק פּראָדוקטן;
5 אין קנויל בוטיל בענזין און קלאָראַנייטיד פּאַליעטאַלין אַדינג אַ קליין סומע פוןnano SiO2פּראָדוצירן קאָליר גומע אַקשאָנעס,
ילאָנגגיישאַן, שטאַרקייַט, פלעקסוראַל פאָרשטעלונג און אַלטראַווייאַליט קעגנשטעל און טערמאַל יידזשינג פאָרשטעלונג און דערגרייכן אָדער יקסיד עפּדם;
6 אין טראדיציאנעלן קאָוטינג אַדינג אַ קליין סומע פון נאַנאָ סיליציום אַקסיידז, גוט סאָלווע די סאַספּענשאַן פעסטקייַט, טהיקסאָטראָפּי און נעבעך, נעבעך ענדיקן.
פֿאַרבונדענע פּראָדוקט:
נאַנאָ האָלמיום אַקסייד,נאַנאָ ניאָביום אַקסייד,נאַנאָ סיליקאָן אַקסייד סיאָ2,נאַנאָ פּרעסן אַקסייד פע2אָ3,נאַנאָ טין אַקסיידSnO2,נאַנאָיטטערביום אַקסייד פּודער,סעריום אַקסייד נאַנאָפּאַודער,נאַנאָ ינדיום אַקסייד ינ2אָ3,נאַנאָ טונגסטאַן טריאַקסייד,נאַנאָ אַל2אָ3 אַלומינום פּודער,נאַנאָ לאַנטהאַנום אַקסייד לאַ2אָ3,נאַנאָ דיספּראָסיום אַקסייד די2אָ3,נאַנאָ ניקאַל אַקסייד ניאָ פּודער,נאַנאָ טיטאַניום אַקסייד טיאָ2 פּודער,נאַנאָ יטריום אַקסייד י2אָ3,נאַנאָ ניקאַל אַקסייד ניאָ פּודער,נאַנאָ קופּער אַקסייד קואָ,נאַנאָ מאַגנעסים אַקסייד מגאָ,צינק אַקסייד נאַנאָ זנאָנאַנאָ ביסמוט אַקסייד בי2אָ3נאַנאָ מאַנגאַנעס אַקסייד מנ 3 אָ 4,נאַנאָ יראָן אַקסייד פע3אָ4
שיקן אונדז אָנפרעג צו באַקומען דינאַנאָ סיליציום אַקסייד סיאָ2 פּרייַז
